長春理工大學理學院 蔡 宸
在光電子探測領域中,基于光電陰極的光電探測器件具有超高速、單光子響應、大面積等優(yōu)點,在光電探測器件特別是微光夜視像增強器等特種器件有廣泛應用[1]。作為夜視器件圖像產生的輻射源,在近紅外波段的夜天光光譜分布遠高于可見光波段[2],因此夜視技術的重要研究方向之一是提高器件的紅外響應,以充分利用夜天光能量。作為夜視器件的核心部件,光電陰極的長波響應直接決定夜視器件的紅外探測性能,而銻化物半導體材料具有電子遷移率高、載流子有效質量小等性能優(yōu)勢,是一種性能優(yōu)良的紅外半導體材料[3],因此對以GaSb材料作為代表的銻化物光電陰極進行研究。由于窄禁帶光電陰極材料GaSb作為光電陰極發(fā)射層材料進行Cs/O難以形成NEA狀態(tài)[4],因此為使陰極表面形成NEA狀態(tài),提高陰極光譜響應,GaSb光電陰極采用TE場助異質結GaSb/GaAs光電陰極結構,該結構下異質結處的能帶結構對GaSb光電陰極光電發(fā)射性能有重要影響,因此有必要研究異質結處的能帶結構。
在未加偏壓情況下,GaSb吸收層與GaAs發(fā)射層異質結界面處如圖1(a)所示存在約0.7eV的導帶勢壘,該勢壘的存在對光電子傳輸?shù)桨l(fā)射層是十分不利的,因此在肖特基勢壘上外加反偏電壓形成耗盡場,以耗盡發(fā)射層并消除異質結勢壘,如圖1(b)所示。
圖1 (a)無外加偏壓和(b)外加偏壓下GaSb陰極能帶示意圖
計算過程中假設異質結處能帶是漸變的,可由雙曲漸變函數(shù)描述:
式中△Eg為GaAs發(fā)射層與GaSb吸收層禁帶寬度差值,Eg(GaSb)為吸收層的禁帶寬度,T(GaAs)為發(fā)射層厚度,L為漸變區(qū)寬度,x為該處距離發(fā)射層表面距離。
同時要考慮外加偏壓引起的異質結空間電勢的改變,可由下式描述:
式中q為電荷電量,W(Vb)為耗盡區(qū)寬度,εr為發(fā)射層相對介電常數(shù),Ф為肖特基勢壘高度,Na為摻雜濃度,其中耗盡區(qū)寬度W(Vb)可由下式描述:
式中k為玻爾茲曼常數(shù),T 為絕對溫度,VD為內建電勢,Vb為所加偏壓。耗盡區(qū)寬度如超出發(fā)射層厚度,則超出部分計算時采用吸收層的材料參數(shù)進行計算。
由描述異質結能帶變化的漸變函數(shù)和外加偏壓空間電勢疊加,可以得到該處導帶變化與到發(fā)射層表面距離x關系的完整模型:
設發(fā)射層摻雜濃度為1×1016cm-3,吸收層摻雜濃度為1×1017cm-3,發(fā)射層厚度為0.5μm,漸變區(qū)寬度為0.2μm,可得到該條件下不同反偏電壓時異質結導帶變化情況。從圖2異質結導帶變化模擬結果中可以看到,外加偏壓達到10V才能較好地消除p-GaAs/p-GaSb異質結勢壘,此時較大的偏壓可能引起暗電流偏大等不良反應,因此應根據(jù)GaSb光電陰極對長波響應、光譜響應的具體要求,設計合適的發(fā)射層摻雜濃度、吸收層摻雜濃度和厚度等陰極材料參數(shù)。
圖2 不同偏壓下p-GaAs/p-GaSb異質結導帶圖
由于異質結能帶計算模型中,忽略了異質結能帶不連續(xù)的情況,因此考慮到吸收層發(fā)射層實際能帶結構以及發(fā)射層表面激活情況,GaSb光電陰極能帶結構示意如圖3所示。圖3中EC為導帶底能級,EV為價帶頂能級,EF為費米能級,EL為真空能級。由于GaAs發(fā)射層和GaSb吸收層存在一約0.7eV的勢壘,因此考慮通過外加偏壓作用消除該勢壘對光電子輸運的不利影響,從而使吸收層激發(fā)的光電子輸運到發(fā)射層,從而克服表面勢壘發(fā)射到真空中。
圖3 偏壓下GaSb光電陰極能帶結構示意圖
通過雙曲漸變函數(shù)描述異質結能帶變化,以發(fā)射層摻雜濃度1×1016cm-3、吸收層摻雜濃度1×1017cm-3、發(fā)射層厚度0.5μm、漸變區(qū)寬度0.2μm為條件,模擬了不同偏壓下異質結處能帶變化情況,在偏壓達到10V時才能較好地消除異質結勢壘對光電子發(fā)射的不利影響。雖然較大的外加偏壓能有效地消除異質結勢壘,但是外加偏壓的增大容易引起陰極暗電流的增大,因此需根據(jù)光電陰極的性能需求對陰極的外加偏壓、厚度、摻雜濃度等參數(shù)進行綜合考量,本文研究對GaSb光電陰極結構設計和工作條件優(yōu)化提供了有益的參考。
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