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(中國原子能科學(xué)研究院,北京 102413)
熔鹽反應(yīng)堆、太陽能塔(SPT)、水脫鹽工廠及油頁巖提取廠等均建議使用氟鹽(FLiNaK)作為800 ℃以上高溫?zé)醿Υ媾c熱轉(zhuǎn)移流體介質(zhì)[1-6]。液態(tài)氟化物鹽具有高溫?zé)徂D(zhuǎn)移介質(zhì)應(yīng)有的優(yōu)異性質(zhì),例如,高體積熱容量、低蒸汽壓、良好的熱傳導(dǎo)性和適中的流動性。然而,在800 ℃以上高溫環(huán)境中,可用于熔鹽熱轉(zhuǎn)移的結(jié)構(gòu)部件材料是有限的[7-9],800H合金是熱交換器候選材料之一。
理論上,800H合金在純FLiNaK鹽中的腐蝕應(yīng)該是極小的,這是因為FLiNaK主鹽成分比800H合金產(chǎn)生的任何腐蝕產(chǎn)物都穩(wěn)定。但是,在氟鹽中,800H合金表面形成的Cr、Al氧化物膜的化學(xué)性質(zhì)是不穩(wěn)定的[11],氟化物中的陰離子和一些金屬形成穩(wěn)定絡(luò)離子(如[CrF4]2-、[FeF4]2-)[10-11],從而加速結(jié)構(gòu)材料腐蝕;加之熔鹽溫度高于800 ℃,材料腐蝕速率可能加快,材料力學(xué)性能可能顯著降低,這對結(jié)構(gòu)材料的安全提出了挑戰(zhàn)。為保證熔鹽熱轉(zhuǎn)移系統(tǒng)的安全運行,研究候選材料在高溫熔鹽中的腐蝕行為、過程及機制是十分必要的。
OLSON等[12]對800H合金在850 ℃ FLiNaK熔鹽中進行了500 h腐蝕試驗,結(jié)果表明:腐蝕主要沿晶界向基體逐漸穿透,Cr元素沿晶界向基體表面擴散;試驗結(jié)束后,試驗鹽中Cr的質(zhì)量濃度達到150 mg/L。因此,有必要研究800H合金在氟鹽中的晶界腐蝕問題。
WATANABLE提出了晶界設(shè)計的概念,晶界設(shè)計就是通過合適的變形及退火工藝,明顯提高材料中低∑CSL(重位點陣,∑≤29)比例,并優(yōu)化其分布,從而改善材料與晶界有關(guān)的多種性能。TAN等研究了冷變形量與退火溫度對800H合金中低∑CSL邊界分數(shù)等的影響,并對經(jīng)晶界工程處理(GBE)后的試樣在超臨界水中進行了腐蝕試驗。結(jié)果表明,GBE顯著提高了800H合金在超臨界水中的耐蝕性[14]。
本工作探究了晶界工程對800H合金在850 ℃ FLiNaK熔鹽中腐蝕行為的影響。以期為800H合金在高溫?zé)徂D(zhuǎn)移和熱儲存方面的應(yīng)用提供數(shù)據(jù)支持。
試驗材料為市售800H合金板材(板厚1.6 mm),其化學(xué)成分為:wC0.05%~0.1%,wMn≤1.5%,wSi≤1.0%,wP≤0.03%,wS≤0.015%,wNi30%~35%,wCr19.2%~23%,wTi0.15%~0.6%,wAl0.15%~0.6%,余量為Fe。試樣尺寸為12.7 mm×6.3 mm×1.6 mm。晶界工程試樣(GBE 800H)處理過程如下:試樣厚度方向進行冷加工(形變量6.5%±0.6%),經(jīng)1 050 ℃熱處理30 min后,水中淬火。試樣用碳化硅砂紙(200號~1 200號)逐級磨光,然后用氧化硅粉末懸浮液(1~6 μm)逐級拋光。對拋光后的試樣進行清洗、吹干、稱量和標(biāo)記。每種試樣取3個平行試樣。然后置于氦氣氣氛手套箱中暫時保存。
腐蝕試驗后橫截面試樣的制備如下:首先用鑲樣機把試樣鑲嵌在鑲樣材料中,然后用碳化硅砂紙(200~1 200號)逐級磨光;然后用碳化硅粉末懸浮液逐級拋光后待用。
FLiNaK鹽按LiF∶NaF∶KF=42.5∶11.5∶46(原子分數(shù))配成混合鹽,置于氦氣氣氛手套箱中。試驗開始前,將試樣置于經(jīng)丙酮和甲醇清洗過的石英管中(內(nèi)徑14 mm,外徑18 mm)。同時取出10 g FLiNaK共晶混合物,倒入石英管中。然后抽空石英管,并充入超高純氦氣,管內(nèi)絕對壓力達到約79 968 Pa。然后用天然氣火焰密封石英管,以保證試驗期間石英管內(nèi)封閉。用天然氣火焰密封石英管期間,使用濕毛巾保持試驗鹽和試樣在低溫狀態(tài),保持鹽在固體狀態(tài)。封裝完成后,把石英管放入水槽中進行泄漏試驗,之后將石英管放進惰性氣氛箱式爐中,試驗溫度為850 ℃,試驗時間為100 h。試驗結(jié)束后,爐子冷卻到室溫,取出石英管。然后敲碎石英管端部,取出試樣和鹽,試樣經(jīng)超聲波清洗后烘干,稱量。按式(1)計算腐蝕失重。
Lmass=(m0-m1)/S
(1)
式中:Lmass為單位面積失重質(zhì)量,g/cm2;m0和m1分別為腐蝕前后試樣質(zhì)量,g;S為試樣與熔鹽接觸表面積,即試樣表面積,cm2。
使用LEO公司(德國)生產(chǎn)的1530VP場發(fā)射掃描電子顯微鏡對試樣腐蝕形貌進行觀察,高真空模式下最高分辨率達到1.0 nm。使用掃描電鏡(SEM)配置的X射線能量色散儀(EDS)對腐蝕后試樣成分進行分析。使用fei FIB200XP型聚焦離子束對試樣進行橫截面切割,使用fie FIB配置的SEM和EDS觀察分析腐蝕孔切割截面的形貌和成分。
由圖1可見:GBE 800H 試樣的平均失重是0.0080g/cm2,800H試樣的平均失重是0.0108g/cm2,GBE800H試樣的平均失重比800H試樣的失重減少約26%。
圖1 2種試樣的平均腐蝕失重Fig. 1 Average corrosion weight loss for 2 samples
由圖2可見:經(jīng)過100 h腐蝕試驗后,GBE 800試樣和800H試樣表面都有一薄層多孔物質(zhì),對2種試樣橫截面進行成分線掃描,結(jié)果表明,這層表面多孔物質(zhì)與800H合金基體成分相似,含有Fe、Cr、Ni等三種元素。
由圖3可見:經(jīng)過100 h腐蝕試驗后,GBE 800H試樣橫截面上顯示了2層腐蝕產(chǎn)物。最表層(即第1層、Fe-Cr-Ni層)物質(zhì)與GBE 800H基體成分基本相同,含有Fe、Cr、Ni三種成分,第1層即2.2節(jié)中所述的表面多孔物質(zhì)層;第2層只有Cr、Al和O三種元素,主要為鉻的氧化物層,Al含量大約7%。圖3中,GBE 800H試樣基體上2層腐蝕物合計厚度約3 μm,其中第1層厚約1.2 μm,第2層厚約1.8 μm。Fe-Cr-Ni層與氧化物層、氧化物層與基體結(jié)合緊密,基體表面凹坑深度小于0.5 μm。
(a) GBE 800H
(b) 800H圖2 850 ℃ FLiNaK熔鹽中100 h腐蝕試驗后GBE 800H和800H試樣表面的SEM形貌Fig. 2 Surface SEM morphology of two samples after exposure to FLiNaK at 850 ℃ for 100 h
圖3 850 ℃ FLiNaK熔鹽中100 h腐蝕試驗后,GBE 800H試樣橫斷面的SEM形貌Fig. 3 Cross-sectional SEM morphology of GBE 800H sample after exposure to FLiNaK at 850 ℃ for 100 h
由圖4可見:經(jīng)過100 h腐蝕試驗后,800H試樣橫截面上顯示了3層腐蝕產(chǎn)物。最表層(即第1層、Fe-Cr-Ni層)物質(zhì)與GBE 800H試樣的基體成分相似,為Fe、Cr、Ni,第1層即2.2節(jié)中描述的表面多孔物質(zhì)層;第2層主要有Fe、Cr、Ni、Al、O等四種元素,其中Fe和Ni的含量與基體相比均減少約50%,Cr含量略低于基體的,Al的質(zhì)量分數(shù)約1.5%;第3層只有Cr、Al和O等三種元素,主要為鉻的氧化物層,Al的質(zhì)量分數(shù)為3%;第3層與基體金屬之間Al的質(zhì)量分數(shù)最高,約10%,向表面方向逐漸降低,第1層與第2層界面處降到0%。第1層與第2層明顯呈分離狀態(tài);三層腐蝕產(chǎn)物的總厚度約6 μm,其中第1層厚約2.8 μm,第2層厚約2.0 μm,第3層厚約1.2 μm。基體表面呈現(xiàn)凹凸?fàn)?,深度約1.5 μm的腐蝕坑形成。
圖4 850 ℃ FLiNaK熔鹽中100 h腐蝕試驗后,800H試樣橫斷面的SEM形貌Fig. 4 Cross-sectional SEM morphology of 800H sample after exposure to FLiNaK at 850 ℃ for 100 h
對比圖3和圖4可見:GBE 800H試樣的腐蝕層厚度(約3 μm)顯著小于800H試樣的;GBE 800H試樣的腐蝕層只有2層,而800H試樣的腐蝕層有3層,多了Fe-Cr-Ni-O層;GBE 800H試樣的腐蝕層之間、腐蝕層與基體之間看起來結(jié)合緊密,而800H試樣腐蝕層中的氧化物層與表面多孔金屬層分離;800H第一層(Fe-Cr-Ni層)厚度為2.8 μm,顯著大于GBE 800H的。
進一步對2種試樣表面進行觀察,結(jié)果表明,所有試樣表面都存在不同程度剝落,800H試樣表面剝落面積顯著多于GBE 800H試樣的。800H試樣表面多孔金屬層掉落面積大,失重相對較多。GBE 800H和800H試樣的腐蝕失重還與合金元素在熔鹽中的溶解有關(guān),但失重數(shù)量應(yīng)該相當(dāng),合金元素在熔鹽中溶解應(yīng)該有飽和度。
由圖5可見:經(jīng)過100 h腐蝕試驗后,2種試樣都存在小的點蝕坑,且從表面向基體延伸;GBE 800H試樣的點蝕密度和向基體延伸的深度顯著小于800H試樣的。圖5中,GBE 800H試樣表面有12個點蝕坑,最大點蝕深度為40 μm,800H試樣表面有23個點蝕坑,最大點蝕深度為60 μm。進一步觀察表明,點蝕坑主要沿晶界向基體延伸的。
(a) 800H
(b) GBE 800H圖5 850 ℃ FLiNaK熔鹽中100 h腐蝕試驗后,2種試樣表面點蝕坑形貌Fig. 5 Pitting morphology of 2 samples after exposure to FLiNaK at 850 ℃ for 100 h
由圖6可見:腐蝕孔中物質(zhì)有兩種,前端五分之一為氟鹽,元素F富集于此;其余五分之四為鉻氧化物,Cr和O兩種元素富集于此。以上結(jié)果表明,氟鹽在基體腐蝕過程中,不參與最終化學(xué)反應(yīng),氟鹽似乎承載捕獲最前端Cr元素,并有轉(zhuǎn)移Cr元素的作用,此后Cr元素與氧反應(yīng)生成氧化物,或者Cr向表面擴散;隨著Cr氧化物生成量的增多,Cr元素向反應(yīng)界面擴散難度增加,F(xiàn)e、Ni開始參加氧化反應(yīng),開始形成Fe-Cr-Ni-O氧化物層。
2.5.1 2種試樣的腐蝕層形成原因
由于F-具有離子半徑小、穿透能力強、能夠被金屬表面強吸附的特點,能與Cr、Fe等元素形成穩(wěn)定絡(luò)離子[10-11],800H合金表面很快形成氟化物鹽層,擠掉氧原子,在原有基體上形成高密度小蝕坑核。點蝕坑內(nèi)F-含量逐步增加,當(dāng)F-含量超過某一臨界值后,基體金屬表面將一直處于活化狀態(tài)而不再鈍化。由于小蝕坑核陽極面積很小,腐蝕速率很快,金屬基體被向下深挖腐蝕,點蝕坑不斷加大加深,最后互相連通,表面多孔Fe-Ni-Cr金屬層形成。
根據(jù)Lewis酸堿理論,堿金屬氟化物(LiF、NaF、KF)容易失去自身F-而偏堿性,從而800H合金容易與F-發(fā)生反應(yīng)形成高穩(wěn)定性絡(luò)合產(chǎn)物,并在氟鹽中溶解一定數(shù)量[11-12]。金屬元素在氟化物中的腐蝕速率按如下順序遞減:Al>Cr>Fe>Ni[15]。因此,初始腐蝕產(chǎn)物Al、Cr氟化絡(luò)合物溶解于氟鹽中。隨著點蝕坑不斷向下深挖連通,合金元素在熔鹽中趨于飽和,氧化活性開始占優(yōu)勢(氧來源于空氣或石英玻璃管需進一步研究)。金屬元素的氧化活性按如下順序遞減:Al>Cr>Fe>Ni[16-17]。從熱力學(xué)數(shù)據(jù),Al2O3應(yīng)該最先在點蝕坑內(nèi)形成,但Al在合金內(nèi)含量不足0.6%,Cr含量約20%,因此含有少量Al2O3的Cr2O3膜形成。隨著Al、Cr不斷從基體脫溶并向表面擴散,氧化膜逐漸增厚,最后形成Al2O3+Cr2O3層。隨著Al2O3+Cr2O3氧化物層不斷增厚,Al、Cr元素向表面擴散的距離不斷增加,擴散到表面的難度增加、數(shù)量減少,F(xiàn)e、Ni開始氧化,圖4中的Fe-Cr-Ni-Al-O氧化物層形成。
(a) 斷面形貌 (b) Cr (c) Fe
(d) Ni (e) O (f) F圖6 850 ℃ FLiNaK熔鹽中100 h腐蝕試驗后,GBE 800H腐蝕孔橫斷面形貌和EDS圖譜Fig. 6 Corrosion hole cross-sectional SEM image (a) and EDS X-ray maps of Cr、Fe、Ni、O、F (b~f) after exposure of GBE 800H to molten FLiNaK at 850 ℃ for 100 h
2.5.2 試樣截面上腐蝕孔形成機制和Cr元素沿晶界發(fā)生選擇性脫溶機制
腐蝕過程中,F(xiàn)-在點蝕坑內(nèi)表面吸附聚集。隨著腐蝕坑內(nèi)表面積增加和氧化腐蝕產(chǎn)物生成,坑內(nèi)表面局部成為活化、半活化陽極腐蝕區(qū),Al、Cr等元素不斷從合金基體內(nèi)部擴散到活性區(qū)表面脫溶,然后擴散到氧化膜表面反應(yīng)。Al、Cr等合金元素從基體擴散離開后,合金中產(chǎn)生的空位逐漸集中,形成試樣截面上的腐蝕孔。
晶粒為陰極區(qū),晶間碳化鉻為陽極區(qū)[18],因此,腐蝕反應(yīng)發(fā)生時,Cr元素首先沿晶界發(fā)生優(yōu)先選擇性脫溶。F-存在時,F(xiàn)-與元素Cr形成穩(wěn)定絡(luò)離子,加速Cr元素沿晶界選擇性脫溶的速率。隨著Cr元素沿晶界選擇性脫溶持續(xù)進行,晶界腐蝕孔形成。然后,依照金屬元素的氧化活性按如下順序遞減:Al>Cr>Fe>Ni[18]。從基體到腐蝕孔表面,Al、Cr元素濃度梯度逐步形成,基體Al、Cr元素不斷向腐蝕孔表面擴散,通過腐蝕孔再向金屬表面擴散反應(yīng),在合金中產(chǎn)生的Al、Cr元素空位逐漸集中,腐蝕孔尺寸逐漸增加。
2.5.3 表面Fe-Ni-Cr多孔腐蝕產(chǎn)物膜剝落的機制
首先,由于F-容易吸附在Fe-Ni-Cr表面多孔金屬層內(nèi)表面[11-12],降低Fe-Ni-Cr表面多孔金屬層與相鄰氧化物界面結(jié)合力;其次,相鄰氧化膜厚度不一,片狀Fe-Ni-Cr層堅硬不變形,氧化膜生長過程中,厚度小的地方容易形成間隙或剝離應(yīng)力,從而Fe-Ni-Cr層逐漸與氧化膜分離;第三,金屬原子從基體擴散到氧化膜表面與O元素反應(yīng),原子晶格排列依從氧化物晶體結(jié)構(gòu),與Fe-Ni-Cr層內(nèi)表面原子層很難存在強原子結(jié)合;第四,Al、Cr等合金元素從表面Fe-Ni-Cr金屬層中脫溶,并溶解于熔鹽中,在合金中產(chǎn)生的空穴逐漸集中,厚度方向尺寸縮小,F(xiàn)e-Ni-Cr表面多孔金屬層與相鄰氧化物產(chǎn)生剝離應(yīng)力,在界面處分離。因此,表面Fe-Ni-Cr多孔腐蝕產(chǎn)物膜在試驗后清潔過程中容易剝落。
2.5.4 GBE如何影響合金的耐腐蝕性
GBE改變了材料近表面結(jié)構(gòu),增加點蝕敏感位置,顯著增加∑3與其他低∑邊界分數(shù),同時降低隨機邊界分數(shù)[16]。點蝕敏感位置增加,腐蝕陽極區(qū)增加,陰極區(qū)相對減少,局部深度腐蝕速率降低,腐蝕更接近均勻腐蝕,腐蝕深度減小。理想∑3邊界處幾乎沒有碳化鉻析出,不發(fā)生Cr元素等沿晶界優(yōu)先選擇性脫溶;與高角度晶界相比,低∑CSL邊界處,碳化鉻聚集數(shù)量少,元素從低∑邊界向表面擴散難度增加;低∑邊界分數(shù)增加,隨機邊界與低∑邊界相遇的幾率增加,二者相遇后,隨機邊界上元素選擇性脫溶終止或速率降低。因此,GBE顯著降低800H的腐蝕深度和FLiNaK沿晶界的滲透深度。
(1) 晶界工程工藝處理顯著提高800H合金在850 ℃ FLiNaK熔鹽中的耐蝕性,GBE 800H合金的腐蝕深度和FLiNaK沿晶界滲透深度都顯著小于800H合金的。
(2) GBE 800H試樣表面腐蝕層由2層構(gòu)成:最表層(即第1層)成分與800H合金的基本相同,含有Fe、Cr、Ni三種元素,為多孔金屬層;第2層含有Al、Cr和O三種元素,Al含量大約3%;GBE 800H試樣基體上,2層腐蝕產(chǎn)物平均厚度合計約3μm,其中第1層平均約1.2μm,第2層約1.8μm。
(3) 800H合金表面腐蝕產(chǎn)物層由3層構(gòu)成:最表層(即第1層)成分與GBE 800H合金的類似,含有Fe、Cr、Ni三種元素,為多孔金屬層;第2層有Al、Fe、Cr、Ni、O等四種元素;第3層只有Al、Cr和O三種元素,Al的質(zhì)量分數(shù)約為7%;800H試樣基體上3層腐蝕物質(zhì)平均厚度合計約6 μm,其中第1層平均約2.8 μm,第2層厚約2.0 μm,第3層厚約1.2 μm。
(4) 腐蝕試樣腐蝕孔中存在兩種物質(zhì):最前端五分之一為氟鹽,其余五分之四為鉻氧化物;隨著鉻氧化物生成量的增多,鉻氧化物不斷從小孔基體向表面轉(zhuǎn)移。
(5) GBE 800H和800H合金試樣的腐蝕失重差別源于表面多孔金屬層的剝落。GBE 800H試樣的表面掉落面積顯著小于800H試樣的。
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