李元元, 蒙慶華, 陳四海, 曾毅波, 郭 航
(1.中國(guó)科學(xué)院 深圳先進(jìn)技術(shù)研究院,廣東 深圳 518055;2.西安電子科技大學(xué) 微電子學(xué)院,陜西 西安 710071;3.廈門(mén)大學(xué) 薩本棟微米納米科學(xué)技術(shù)研究院,福建 廈門(mén) 361005)
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基于MEMS技術(shù)的F-P腔濾波器分析與設(shè)計(jì)*
李元元1,2, 蒙慶華1, 陳四海1, 曾毅波3, 郭 航3
(1.中國(guó)科學(xué)院 深圳先進(jìn)技術(shù)研究院,廣東 深圳 518055;2.西安電子科技大學(xué) 微電子學(xué)院,陜西 西安 710071;3.廈門(mén)大學(xué) 薩本棟微米納米科學(xué)技術(shù)研究院,福建 廈門(mén) 361005)
通過(guò)對(duì)微光纖法布里—珀羅(F-P)腔濾波器工作原理的綜合分析,確立了微F-P腔濾波器靜電驅(qū)動(dòng)腔長(zhǎng)調(diào)諧方案。對(duì)可調(diào)諧濾波器的主體部分進(jìn)行光學(xué)設(shè)計(jì)和分析,確立了反射鏡的多層薄膜光學(xué)結(jié)構(gòu),并借助ANSYS有限元力電耦合分析,最終選擇L型橋臂支撐的腔體結(jié)構(gòu),可以實(shí)現(xiàn)0.625 μm的調(diào)諧范圍;保持橋面平行的能力很高,可實(shí)現(xiàn)高精度的濾波效果;結(jié)構(gòu)穩(wěn)固,能夠抵抗制造時(shí)的殘余應(yīng)力。
濾波器; 調(diào)諧; 反射鏡; 腔體結(jié)構(gòu)
光學(xué)通信以其大容量、長(zhǎng)傳輸、低成本的優(yōu)勢(shì),使得其研發(fā)與應(yīng)用日益深入[1]?;贛EMS技術(shù)制作的微法布里—珀羅(Fabry-Perot,F(xiàn)-P)可調(diào)諧濾波器相比于其他可調(diào)諧濾波器,體積微小,易于集成,可調(diào)諧光譜范圍大,光譜的分辨率高,大批量制作時(shí)成本比較低,因而,在光通信系統(tǒng)中應(yīng)用較為廣泛[2]。目前,F(xiàn)-P腔可調(diào)諧濾波器的研究正朝著大陣列、小單元尺寸、調(diào)諧范圍廣、精細(xì)度高、調(diào)諧速度快、損耗低的方向發(fā)展[3]。空氣腔微型F-P腔濾波器由于調(diào)諧范圍大,精度高且驅(qū)動(dòng)簡(jiǎn)單成為未來(lái)濾波器的首選方案[2,3]。
本文從F-P腔工作原理出發(fā),進(jìn)行研究分析,提出了一種以多層介質(zhì)薄膜作為其上、下反射鏡的光學(xué)膜層和L型的腔體支撐臂的新型微型F-P腔濾波器結(jié)構(gòu),該結(jié)構(gòu)具有良好的波長(zhǎng)選擇性,能實(shí)現(xiàn)比較好的調(diào)諧控制。
F-P腔是多光束諧振腔,如圖1所示,由兩塊平行放置的平面玻璃板組成,兩板的內(nèi)表面鍍上了高反射膜,當(dāng)光束E入射到腔體時(shí),會(huì)在兩反射面之間來(lái)回反射,形成多光束干涉效應(yīng),只有當(dāng)光波長(zhǎng)滿(mǎn)足式(1)光波才能透過(guò)腔體,使透射光干涉增強(qiáng),產(chǎn)生明亮精細(xì)的條紋
2ndcosθ=mλ
(1)
式中n為折射率;d為濾波器腔長(zhǎng);θ為折射角;m為整數(shù);λ為光波長(zhǎng)。F-P腔的調(diào)諧過(guò)程,即為諧振頻率的改變過(guò)程。其中,調(diào)節(jié)腔長(zhǎng)最為直觀,在MEMS技術(shù)中也最為常用。
本文對(duì)可調(diào)諧濾波器的主體部分進(jìn)行了設(shè)計(jì),主要包括反射鏡光學(xué)設(shè)計(jì)和腔體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)。
2.1 反射鏡結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
反射鏡是F-P腔的一個(gè)主要組成部分,由反射膜堆疊構(gòu)成。常用的反射膜有金屬薄膜和多層介質(zhì)薄膜[4~7]。多層介質(zhì)薄膜由于光吸收損耗小以及可以通過(guò)改變膜層數(shù)改變反射率而更加符合要求。依據(jù)設(shè)計(jì)要求,考慮到多種組合之后,采用Al2O3為低折射率材料L1,Ge作為高折射率介質(zhì)材料L2。由于Ge化學(xué)性能穩(wěn)定,折射率為4,可制備大尺寸單晶體的紅外光材料,紅外透射范圍為1.7~100 μm,已廣泛應(yīng)用于透鏡和濾波片上;Al2O3是常用的低折射率材料,折射率1.59,紅外透光區(qū)0.2~7 μm。為此,本文采用高低折射率交替的介質(zhì)薄膜作為反射鏡結(jié)構(gòu),其結(jié)構(gòu)如圖1所示。
圖1 反射鏡膜層結(jié)構(gòu)
由式(1),當(dāng)m=1,入射角θ=0時(shí),由于空氣折射率n=1,可得λ=2d,此時(shí)透射光強(qiáng)最大。調(diào)諧范圍為3~5 μm,則此F-P腔工作的中心波長(zhǎng)為4 μm,腔長(zhǎng)變化要從1.5 μm至2.5 μm,腔長(zhǎng)變化到2個(gè)極值時(shí),器件峰值透過(guò)率分別為88.2 %,91.7 %,濾波特性保持較好。但當(dāng)腔長(zhǎng)改變時(shí),透射中心波長(zhǎng)也會(huì)隨之變化,因此,比例系數(shù)也不再為2,即λ≠2d。
腔長(zhǎng)變化時(shí),濾波特性的變化如表1所示,此時(shí)的器件峰值透過(guò)率為95.8 %,半波寬FWHM為112 nm,整個(gè)濾波范圍內(nèi)只有中心波長(zhǎng)4 μm的透射峰,其他波段透過(guò)率低于1.9 %,濾波效果顯著。實(shí)驗(yàn)值和理論分析相吻合。
表1 腔長(zhǎng)變化時(shí)濾波特性的變化
通過(guò)計(jì)算得出,二者之間基本呈線(xiàn)性關(guān)系,擬合直線(xiàn)為
2.全面覆蓋了監(jiān)察對(duì)象。國(guó)家監(jiān)察法第15條規(guī)定了留置適用的六大類(lèi)對(duì)象,(1)中國(guó)共產(chǎn)黨機(jī)關(guān)、人民代表大會(huì)及其常務(wù)委員會(huì)機(jī)關(guān)、人民政府、監(jiān)察委員會(huì)、人民法院、人民檢察院、中國(guó)人民政治協(xié)商會(huì)議各級(jí)委員會(huì)機(jī)關(guān)、民主黨派機(jī)關(guān)和工商業(yè)聯(lián)合會(huì)機(jī)關(guān)的公務(wù)員,以及參照《中華人民共和國(guó)公務(wù)員法》管理的人員;(2)法律、法規(guī)授權(quán)或者受?chē)?guó)家機(jī)關(guān)依法委托管理公共事務(wù)的組織中從事公務(wù)的人員;(3)國(guó)有企業(yè)管理人員;(4)公辦的教育、科研、文化、醫(yī)療衛(wèi)生、體育等單位中從事管理的人員;(5)基層群眾性自治組織中從事管理的人員;(6)其他依法履行公職的人員。
λ=1.466d+1.069
(2)
2.2 腔體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)
理想的F-P腔的腔體,可以通過(guò)施加最小的電壓,達(dá)到器件調(diào)諧的目,并在調(diào)諧過(guò)程中腔體要有很好的平行度以保證優(yōu)良的選頻性能,同時(shí),腔體支撐部分還要能夠抵御極大的應(yīng)力,決不可超過(guò)材料的最大承受度而造成器件損壞。改變空氣腔腔長(zhǎng)的驅(qū)動(dòng)方式主要有熱驅(qū)動(dòng)和電磁驅(qū)動(dòng)以及靜電驅(qū)動(dòng),前兩者的噪音大且功耗大,對(duì)于需要大量驅(qū)動(dòng)的MEMS濾波器陣列,在有限范圍內(nèi)靜電驅(qū)動(dòng)可以提供足夠的腔長(zhǎng)調(diào)諧量,故本文采用靜電驅(qū)動(dòng)來(lái)進(jìn)行濾波器的腔長(zhǎng)調(diào)節(jié)。微F-P腔濾波器的腔體結(jié)構(gòu)如圖2所示,上反射鏡可調(diào),在上、下電極上施加電壓后,靜電力的作用會(huì)牽引上反射鏡上(或下)運(yùn)動(dòng),從而實(shí)現(xiàn)波長(zhǎng)或頻率的調(diào)諧。
圖2 微F-P腔濾波器腔體結(jié)構(gòu)
在給電極施加電壓時(shí),雖然靜電驅(qū)動(dòng)能量很低,但是當(dāng)距離比較大時(shí),所需施加的電壓也相對(duì)增大,此時(shí)的靜電力Fe的大小對(duì)于平板是非線(xiàn)性的[8,9],表達(dá)式有
(3)
式中 A為平板面積; h 為距離;V為電壓;ε0為自由空間的介電常數(shù)。電極在外加電壓時(shí)產(chǎn)生靜電吸引力,腔體之間的靜電力會(huì)使電極發(fā)生形變,一旦電極發(fā)生形變,其均勻電場(chǎng)線(xiàn)就會(huì)遭到破壞,而電場(chǎng)力的變化又會(huì)造成新的形變。研究中用ANSYS有限元分析軟件進(jìn)行力電耦合分析,對(duì)器件位移、橋面形變,以及橋體應(yīng)力大小,選擇最佳的腔體結(jié)構(gòu)。圖3為3種微橋結(jié)構(gòu),X-arm結(jié)構(gòu)具有很好的幾何對(duì)稱(chēng)性,不僅軸對(duì)稱(chēng),還滿(mǎn)足中心對(duì)稱(chēng)尺寸。+circular-arm結(jié)構(gòu)與X-arm結(jié)構(gòu)相似,只是橋面的形狀采用圓形,這2種結(jié)構(gòu)與所設(shè)計(jì)的L-arm結(jié)構(gòu)參數(shù)相同,腔長(zhǎng)均為2.3μm,有效面積均為80μm×80μm,反射鏡的直徑均為50μm,微橋支撐臂為40μm×10μm;而+circular-arm的微橋單元直徑為80μm,反射鏡直徑50μm,支撐臂為40μm×10μm。
圖3 微橋結(jié)構(gòu)
2.3 腔體結(jié)構(gòu)仿真
圖4為3種橋面結(jié)構(gòu)的電壓—位移的ANSYS仿真云圖,可以看出:X-arm和+circular-arm結(jié)構(gòu)橋面發(fā)生扭曲,這樣會(huì)對(duì)F-P腔的選頻性能產(chǎn)生極大的影響,降低峰值透過(guò)率,增大FWHM。而采用L-arm結(jié)構(gòu)的橋面在調(diào)諧過(guò)程中一直比較平整,幾乎沒(méi)有發(fā)生形變,所以,其濾波精細(xì)度更高。
圖4 橋面結(jié)構(gòu)電壓—位移云圖
圖5為整個(gè)調(diào)節(jié)過(guò)程中,三種結(jié)構(gòu)對(duì)應(yīng)的電壓—位移曲線(xiàn)。
圖5 電壓—位移曲線(xiàn)
在達(dá)到圖示位移0.5μm時(shí),L-arm結(jié)構(gòu)施加電壓僅為1.90V,遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于另外X-arm(7.81V)和+circular-arm(8.97V)2種結(jié)構(gòu)的驅(qū)動(dòng)電壓。
2.3.2 結(jié)構(gòu)應(yīng)力分析
圖6和表2分別為3個(gè)橋面結(jié)構(gòu)的應(yīng)力分布云圖和腔體位移為0.5μm時(shí)對(duì)應(yīng)的電壓—應(yīng)力,分析得:調(diào)諧過(guò)程中,腔體位移達(dá)到0.5μm時(shí),L-arm微橋橋面所受到的應(yīng)力很小,僅為4.615MPa,驅(qū)動(dòng)電壓僅為1.9V。
表2 腔體位移為0.5 μm時(shí)對(duì)應(yīng)的電壓—應(yīng)力
圖6 應(yīng)力云圖
在3種結(jié)構(gòu)中,L-arm調(diào)諧效果和抵抗應(yīng)力的能力最好??梢?jiàn),L-arm長(zhǎng)長(zhǎng)的手臂能有效抵抗應(yīng)力的影響,L-arm為最佳橋面結(jié)構(gòu)。
此外,從應(yīng)力云圖可知,腔體應(yīng)力主要集中在支撐橋臂和橋面連接處以及橋臂位移最大的位置,因此,橋臂的選擇是設(shè)計(jì)的關(guān)鍵,不僅需要保證其能夠提供足夠大的移動(dòng)空間防止腔體因靜電吸合導(dǎo)致器件失效,還要支撐起整個(gè)腔體結(jié)構(gòu)且不能發(fā)生結(jié)構(gòu)斷裂。
圖7 L-arm橋面位移0.625 μm時(shí)應(yīng)力云圖
由仿真結(jié)果圖7可知,空氣腔向下移動(dòng)0.625 μm時(shí),L-arm支撐臂結(jié)構(gòu)應(yīng)力最大為8.97 MPa,遠(yuǎn)小于鋁的許用應(yīng)力70 GPa,理論上不會(huì)發(fā)生橋腿斷裂的現(xiàn)象。
衡量F-P腔濾波器性能的重要標(biāo)準(zhǔn)為橋面結(jié)構(gòu)的平整度,即Finesse和調(diào)諧范圍FSR。可見(jiàn)微橋結(jié)構(gòu)的幾何形狀對(duì)調(diào)諧性能具有很大的影響,綜合以上所有分析結(jié)果,確立了L-arm腔體支撐臂結(jié)構(gòu)。
設(shè)計(jì)了基于MEMS技術(shù)的微型F-P腔可調(diào)諧濾波器,具有多層介質(zhì)膜光學(xué)結(jié)構(gòu)和L型微橋橋臂結(jié)構(gòu),與其他結(jié)構(gòu)相比,使調(diào)諧范圍最大可達(dá)0.625 μm,峰值透過(guò)率達(dá)95.8 %;保持橋面平行的能力很高,可實(shí)現(xiàn)高精度的濾波效果;結(jié)構(gòu)穩(wěn)固,能夠抵抗制造時(shí)的殘余應(yīng)力。
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Analysis and design of MEMS-based F-P cavity filter*
LI Yuan-yuan1,2, MENG Qing-hua1, CHEN Si-hai1, ZENG Yi-bo3, GUO Hang3
(1.Shenzhen Institute of Advanced Technology,Chinese Academy of Sciences,Shenzhen 518055,China;2.School of Microelectronics,Xidian University,Xi’an 710071,China;3.Pen-Tung Sah Institute of Micro-Nano Science and Technology,Xiamen University,Xiamen 361005,China)
By comprehensive analysis on working principle of micro F-P cavity filter,the optimum tuning scheme of micro F-P cavity filter is established.The main part of the optical structure is designed,a multilayer film structures of the mirror is established,and with the help of ANSYS finite element electro-mechanical coupling analysis,L type bridge arm supported cavity structure is finally established,the structure can achieve a considerable range of tuning 0.625 μm; relatively high fill factor,filter light leakage is avoided; the high ability to keep parallel can achieve high precision filtering effect; structural stability can resist the residual stress of manufacture.
filter; tuning; mirror; cavity structure
10.13873/J.1000—9787(2017)08—0069—03
2016—09—19
深圳市科技計(jì)劃資助項(xiàng)目(JCYJ20140610151856737)
TN 713
A
1000—9787(2017)08—0069—03
李元元(1990-),女,碩士研究生,主要研究方向?yàn)槲C(jī)電系統(tǒng)的設(shè)計(jì)與制作,E—mail:18629464161@163.com。
陳四海(1973-),女,通訊作者,研究員,博導(dǎo),從事微光學(xué)元器件研究工作,E—mail:cshai99@163.com。