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      拉通型APD增益因子計算模型與驗證

      2017-06-15 15:43:58焦曉光王永志
      制導(dǎo)與引信 2017年1期
      關(guān)鍵詞:光電流偏壓電離

      焦曉光, 王永志

      (激光探測技術(shù)研發(fā)中心, 上海 200090)

      拉通型APD增益因子計算模型與驗證

      焦曉光, 王永志

      (激光探測技術(shù)研發(fā)中心, 上海 200090)

      根據(jù)APD增益因子經(jīng)驗公式和拉通型APD的結(jié)構(gòu)特點,提出了一種新的適用于拉通型APD的增益因子計算模型,并進行了實驗驗證。實驗表明,在偏置電壓從0到接近擊穿電壓的全范圍內(nèi),應(yīng)用該計算模型對拉通型APD增益因子的估算是準(zhǔn)確的。

      增益因子; 擊穿電壓; 偏置電壓

      0 引言

      拉通型APD(雪崩光電二極管)具有較高的靈敏度、較寬的動態(tài)范圍和較好的溫度特性,在主動、半主動激光導(dǎo)引頭[1]、遠距離激光雷達和激光通信等領(lǐng)域廣泛使用[2-3]。

      APD是一種內(nèi)光電效應(yīng)器件,并且具有內(nèi)增益特性,1個光子可以產(chǎn)生10~100對電子空穴對,在其內(nèi)部即可獲得較大的增益。APD工作在反向偏壓下,當(dāng)反向偏壓越高,結(jié)區(qū)的電場強度越高,電子空穴對被電場加速,獲得動能,與晶格發(fā)生碰撞,就會產(chǎn)生新的二次電離的電子空穴對,新的電子空穴對在電場的作用下再次被加速,與晶格碰撞產(chǎn)生更多的電子空穴對,形成“雪崩”倍增。

      典型APD的反向偏壓越接近擊穿電壓,增益迅速增大。而拉通型APD的增益隨著反向偏壓增大有明顯的分段特征。

      目前,本文從拉通型APD的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)出發(fā),分析了反向偏壓對APD增益的影響,提出了增益因子計算模型,并開展了試驗驗證。

      1 拉通型APD工作原理

      1.1 拉通型APD結(jié)構(gòu)

      拉通型APD主要包括吸收層、過渡層、倍增層和接觸層等四層基本結(jié)構(gòu)[4],如圖1所示。為了提升APD的帶寬和噪聲性能,在基本結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)上會增加緩沖層、電荷層等匹配層,這些匹配層對APD的增益影響不大,本文中暫不考慮這些匹配層的影響。

      圖1中,分四個區(qū)域:吸收層為P型重摻雜區(qū),記為P+,厚度較薄,其主要功能是實現(xiàn)吸收光子,產(chǎn)生光生電子空穴對;過渡層接近本征半導(dǎo)體的P型弱摻雜區(qū),記為P(π),厚度較厚,其主要功能是進一步吸收光子,產(chǎn)生光生電子空穴對,同時加速電子;倍增層為P型輕摻雜區(qū),記為P,厚度較薄,主要功能實現(xiàn)電子倍增;接觸層為N型重摻雜區(qū),記為N+,厚度較薄,主要功能與P區(qū)形成P-N+結(jié),為電子倍增提供高電場。

      1.2 工作過程

      拉通型APD工作在反向偏壓下,如圖1所示。電子的移動主要由電場決定,工作反向偏壓下拉通型APD的電場分布如圖2所示[4]。

      其工作過程:光子入射到吸收層上,把電子從價帶激發(fā)到導(dǎo)帶,形成光生電子空穴對,在電場作用下,電子加速,在P-N+結(jié)區(qū)與晶格碰撞,產(chǎn)生二次電離電子空穴對,P-N+結(jié)區(qū)的電場強度較高,新產(chǎn)生的電子空穴對再次與晶格碰撞,不斷循環(huán),形成“雪崩”倍增。

      隨著反向偏壓越來越高,接近P-N+結(jié)的擊穿電壓,P-N+結(jié)區(qū)雪崩倍增發(fā)生,APD的增益迅速增大;同時耗盡區(qū)越來越寬,在P-N+結(jié)被擊穿之前,P及P(π)區(qū)被完全耗盡,即P區(qū)被拉通。之后隨著反向偏壓升高,APD增益開始緩慢增大,直到反向偏壓接近標(biāo)稱的APD擊穿電壓時,APD的增益迅速增大。

      典型的拉通型APD增益曲線如圖3所示,M代表APD的內(nèi)增益,具有明顯的分段特性。

      2 拉通型APD增益因子計算模型

      2.1 APD增益因子經(jīng)驗公式

      APD的內(nèi)增益是由雪崩增益決定的,而雪崩過程主要是電離碰撞過程,可通過計算電離積分來獲得,其增益滿足[5]:

      (1)

      式中:M為APD的增益;WD為耗盡區(qū)寬度;αn為N區(qū)的電離率;αp為P區(qū)的電離率;x為位置。

      其中,耗盡區(qū)寬度和電離率主要與反向偏壓、材料摻雜情況有關(guān)。僅考慮倍增區(qū)時,N區(qū)電離率與P區(qū)電離率接近時,增益因子簡化為

      (2)

      式中:α為電離率。

      式(2)中,αWD與反向偏壓和擊穿電壓的比值有關(guān),滿足經(jīng)驗公式αWD=(U/UBR)n。因此,APD增益因子的經(jīng)驗公式為[6]

      (3)

      式中:U為反向偏壓;UBR為擊穿電壓;n為結(jié)構(gòu)指數(shù),主要與材料和摻雜有關(guān)。

      2.2 拉通型APD增益因子計算模型

      2.2.1 拉通前后電場分析

      拉通型APD之所以呈現(xiàn)分段特征,是由于拉通前后的電場分布有明顯區(qū)別。

      在P區(qū)尚未耗盡之前(拉通前),P-N+結(jié)的電阻遠遠大于P區(qū);隨著反向偏壓增大,P-N+結(jié)的電場不斷增強,P區(qū)電場可忽略不計。電場分布如圖4所示。

      在P區(qū)完全耗盡后(拉通后),N+區(qū)也接近耗盡,P-N+結(jié)的電場強度已接近極限,此時反向偏壓的增加主要使P區(qū)電場增加,P-N+結(jié)的電場增加量極少。電場分布如圖5所示。

      2.2.2 拉通型APD增益因子計算公式

      根據(jù)拉通前的電場分布,拉通型APD的增益因子與式(3)相同,即

      (4)

      式中:MRAPD為增益因子;URAPD為反向偏壓;UBR′為P-N+結(jié)的擊穿電壓;Urth為拉通電壓。

      根據(jù)拉通后的電場分布,拉通之后,增加的方向偏壓主要用于增強耗盡區(qū)的電場,結(jié)區(qū)的電場增加極小。假設(shè)結(jié)區(qū)增加的電勢與耗盡區(qū)增加的電勢之比為K,考慮APD的增益主要由結(jié)區(qū)電場決定,仍與式(3)類似,則拉通后的增益因子滿足:

      (5)

      式中:K為拉通后結(jié)區(qū)電勢增加量與耗盡區(qū)電勢增加量之比。

      式(4)和式(5)即為拉通型APD的增益因子計算公式。

      3 試驗驗證

      3.1 拉通型APD增益曲線測試

      選取First Sensor公司型號為QA4000和AD1100-9的兩款拉通型APD作為測試對象,其中QA4000為四象限探測器,是1 064 nm增強型,AD1100-9為單象限探測器,是905 nm增強型。

      使用衰減片和光闌獲得極弱的入射光,采用高壓模塊為APD提供反向偏壓,采用nA級電流表監(jiān)測APD輸出的光電流。不斷調(diào)整反向偏壓,記錄電流表的讀數(shù)。

      APD的增益因子定義為輸出光電流與輸入光電流之比,當(dāng)反向偏壓為0時的光電流即為輸入光電流,即

      (6)

      式中:MI為增益因子;IU為反向偏壓下輸出的光電流;I0為輸入光電流。

      根據(jù)式(6)即可獲得增益曲線(M-U)。

      3.2 結(jié)果分析

      QA4000的M增益曲線測試結(jié)果與M增益計算結(jié)果(根據(jù)式(4)和式(5),選取三點對三個參數(shù)進行求解得到Urth=46,K=0.002 25,n=7),如圖6所示。

      AD1100-9 M增益曲線測試結(jié)果與M增益計算結(jié)果(與QA4000參數(shù)計算方式相同),如圖7所示。

      4 總結(jié)

      本文提出的拉通型APD增益因子計算模型

      能夠覆蓋反向偏壓工作的全范圍,且與實測數(shù)據(jù)符合度較高。利用這一計算模型,可以有效簡化拉通型APD增益因子的測試,同時也可為拓展拉通型APD反向偏壓控制范圍和優(yōu)化控制范圍提供理論指導(dǎo)。

      [1] 李建中,彭其先,李澤仁,等. 彈載激光主動成像制導(dǎo)技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀分析[J].紅外與激光工程, 2014,(4):1117-1123.

      [2] 周國清,周詳,張烈平,等. 雪崩光電二極管線陣激光雷達多路飛行時間并行測量系統(tǒng)研究[J]. 科學(xué)技術(shù)與工程, 2014,(22):62-67.

      [3] 王平,耿天文,傘金剛,等. 基于APD的高靈敏度大氣激光通信接收機系統(tǒng)設(shè)計[J]. 光通信技術(shù), 2015,(12):51-54.

      [4] Cortés I, Fernández-Martínez P, Flores D, et al. Gain Estimation of RT-APD Devices by Means of TCAD Numerical Simulations[C]. Proceedings of the 8th Spanish Conference on Electron Devices, CDE′, 2011:56-59.

      [5] Campbell J C, Demiguel S, Ma F, et al. Recent Adcances in Avalanche Photodiodes[J]. IEEE J.Selected Topics Quan.Elect., 2004,(10):777-781.

      [6] Melchior H, Lynch W T. Signal and Noise Response of High Speed Germanium Avalanche Photodiodes[J]. IEEE Trans.Electron Dev.,1966,(13):829-831.

      Experimental Model and Verification of a Gain Factor for Reach-through APD

      JIAOXiao-guang,WANGYong-zhi

      (Laser R&D Center of Detection Technology, Shanghai 200090, China)

      A novel calculation model of gain factor for reach-through APD is proposed based on the empirical formula of APD gain factor and the structure of reach-through APD. Experimental verification is carried out. By progressively changing the bias voltage from zero to near-breakdown voltage, the model is experimentally demonstrated to be applicative for gain factor estimation of reach-through APD in the range.

      gain factor; breakdown voltage; bias voltage

      1671-0576(2017)01-0033-04

      2016-09-30

      焦曉光(1985-),男,工程師,碩士,主要從事激光雷達及光電探測器方面研究;王永志(1987-),男,工程師,博士,主要從事激光雷達及非線性光學(xué)等方面研究。

      O437.1; TN929.1

      A

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