不同半導(dǎo)體制造技術(shù)間高效轉(zhuǎn)換集成光路設(shè)計(jì)的方式探究

尚鴻鵬，石云杰，孫翔宇，常麗媛長(zhǎng)春理工大學(xué)

不同半導(dǎo)體制造技術(shù)間高效轉(zhuǎn)換集成光路設(shè)計(jì)的方式探究

尚鴻鵬，石云杰，孫翔宇，常麗媛
長(zhǎng)春理工大學(xué)

針對(duì)60GHz的光纖到戶無(wú)線通信應(yīng)用，本研究設(shè)計(jì)了一種基于磷化銦的遠(yuǎn)端接入點(diǎn)集成光子芯片。在多項(xiàng)目晶圓框架下，本設(shè)計(jì)方案為了確保集成光子芯片能夠滿足設(shè)計(jì)要求，在設(shè)計(jì)中分別對(duì)晶圓廠流片的設(shè)計(jì)功能和結(jié)構(gòu)參數(shù)及后期掩膜設(shè)計(jì)等相關(guān)內(nèi)容進(jìn)行了詳細(xì)檢驗(yàn)、論證，以此有效提高了設(shè)計(jì)質(zhì)量，同時(shí)縮短了集成光子芯片的設(shè)計(jì)周期。

半導(dǎo)體制造技術(shù)；高效轉(zhuǎn)換；集成光路；設(shè)計(jì)

微波光子學(xué)是一門實(shí)用性和實(shí)踐性較強(qiáng)的學(xué)科，其與集成轉(zhuǎn)換技術(shù)密切相關(guān)。但是，由于集成技術(shù)的優(yōu)化需通過(guò)具體應(yīng)用來(lái)體現(xiàn)，因此其對(duì)集成光路進(jìn)行大量工業(yè)制造形成了阻礙[1]?；诖?，本文將重點(diǎn)探討不同半導(dǎo)體制造技術(shù)間高效轉(zhuǎn)換集成光路的設(shè)計(jì)方式。

1.MPW框架

MPW框架又稱“多項(xiàng)目晶圓框架”，其英文全稱為“Multi-projectWafer”。在該框架下，基于集成技術(shù)，可將不同設(shè)計(jì)合并到某個(gè)晶圓中，以此采用標(biāo)準(zhǔn)化的加工工藝，對(duì)整片晶圓進(jìn)行加工。因此，在此框架之下，加工整片晶圓所產(chǎn)生的成本就會(huì)由所有參加“Multi-projectWafer”的項(xiàng)目，結(jié)合集成光子芯片的實(shí)際面積進(jìn)行均勻分?jǐn)?，所以加工費(fèi)用可降低大約10%[2]。

2.微光子領(lǐng)域中的通用晶圓廠模式

所謂“通用晶圓廠”主要是指一個(gè)集成光子芯片制造廠能夠?qū)⑵渫ㄓ玫募杉夹g(shù)工藝向外進(jìn)行開放。目前，基于基于“磷化銦”的通用晶圓廠集成加工模式在我國(guó)微光子技術(shù)領(lǐng)域具有非常廣闊的應(yīng)用前景。由于磷化銦是一種能夠支持增益元件的材料，故其對(duì)于芯片集成的光源而言至關(guān)重要。當(dāng)前，在JEPPIX的協(xié)調(diào)下，磷化銦多項(xiàng)目晶圓可為英國(guó)、德國(guó)和荷蘭提供3個(gè)晶圓廠。

3.基于PDKs的PDAFlow

在對(duì)集成光子芯片進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)時(shí)，為了使相關(guān)設(shè)計(jì)過(guò)程與晶圓廠的基本要求相符，需采用PDKs設(shè)計(jì)工具進(jìn)行設(shè)計(jì)規(guī)則檢查。該工具為晶圓廠特定的工藝設(shè)計(jì)工具，其包含了能夠用來(lái)設(shè)計(jì)ASPICs元件的掩膜布局。在具體優(yōu)化、設(shè)計(jì)過(guò)程中，“Photonic Design Automation Flow”首先需對(duì)設(shè)計(jì)過(guò)程中所采用的相關(guān)參數(shù)進(jìn)行定義，然后再?gòu)南到y(tǒng)層面中獲取集成光子芯片設(shè)計(jì)所需的基本參數(shù)，以此對(duì)其所對(duì)應(yīng)的回路進(jìn)行設(shè)計(jì)；同時(shí)，對(duì)回路實(shí)現(xiàn)過(guò)程所需的元件進(jìn)行選取。在元件選取時(shí)，若“Process Design Kits”無(wú)法為“Photonic Design Automation Flow”提供實(shí)現(xiàn)回路所需要的元件，則集成光子芯片設(shè)計(jì)和制造的技術(shù)人員需對(duì)所需元件進(jìn)行仿真設(shè)計(jì)。只有當(dāng)整個(gè)光回路的相關(guān)功能通過(guò)系統(tǒng)仿真、驗(yàn)證后，設(shè)計(jì)人員方可將設(shè)計(jì)發(fā)送至晶圓廠。所以，“Photonic Design Automation Flow”是“iPCP”的重要基礎(chǔ)。通過(guò)這一集成產(chǎn)品創(chuàng)造流程，對(duì)設(shè)計(jì)、系統(tǒng)和工藝工程師之間的交互過(guò)程進(jìn)行了系統(tǒng)描述。與此同時(shí)，通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)的接口和對(duì)軟件的應(yīng)用，可獲得不同軟件包之間的自由轉(zhuǎn)換。

4.HHI和Oclaro的相互轉(zhuǎn)換

在MPW框架下，為了滿足集成光子芯片的設(shè)計(jì)要求，本研究選取了兩個(gè)不同的晶圓廠和HHI和Oclaro流片，旨在HHI和Oclaro中實(shí)現(xiàn)ASPIC設(shè)計(jì)的相互轉(zhuǎn)換。首先，基于設(shè)計(jì)規(guī)格，為了能夠科學(xué)提出一種能夠滿足設(shè)計(jì)要求的回路結(jié)構(gòu)，需借助ASPIC軟件在回路層面進(jìn)行系統(tǒng)仿真，然后對(duì)晶圓廠所提供的BBs進(jìn)行查看，從而找到全部能夠滿足設(shè)計(jì)要求的回路結(jié)構(gòu)。在查看過(guò)程中，若發(fā)現(xiàn)某些BBs只存在于其中一個(gè)晶圓廠的PDK中，則ASPIC設(shè)計(jì)無(wú)法完成在HHI和Oclaro兩個(gè)晶圓廠之間的相互轉(zhuǎn)換。

本研究所設(shè)計(jì)的集成光路主要為了向用于遠(yuǎn)程光接入點(diǎn)且使用CWDM分配器的壓?jiǎn)卧峁┫嚓P(guān)功能。在此過(guò)程中，需借助AWG來(lái)完成CWDM分配器的設(shè)計(jì)。其中，AWG（Arrayed Waveguide Grating）需在晶圓廠HHI平臺(tái)內(nèi)應(yīng)用Opto Designer 5軟件中知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)的擴(kuò)展包，對(duì)AWG結(jié)構(gòu)的光譜和大小進(jìn)行仿真、優(yōu)化。HHI和Oclaro平臺(tái)下，AWG的光譜圖和大小分別為2.5× 1.5mm2和1.5×1.0mm2。

從上仿真結(jié)果來(lái)看，在HHI和Oclaro平臺(tái)下，AWG結(jié)構(gòu)的光譜圖和大小仿真結(jié)果存在很大差異。但是，其依然能夠確保接收器和發(fā)射器可在同一個(gè)波長(zhǎng)下進(jìn)行工作，從而證明了“ASPIC設(shè)計(jì)”在HHI和Oclaro兩個(gè)不同平臺(tái)中的相互轉(zhuǎn)換合理、可行。

另外，在該集成光路設(shè)計(jì)中，為了使ASPIC設(shè)計(jì)在HHI和Oclaro兩個(gè)不同平臺(tái)中的相互轉(zhuǎn)換更加便捷與高效，本研究還同時(shí)采用了“pxSinebend”及“pxMMI”等一些具有自適應(yīng)功能的通用結(jié)構(gòu)單元。如結(jié)合“MMI”（多模干涉器）輸出與輸入端的波導(dǎo)寬度，即可對(duì)錐形波導(dǎo)進(jìn)行自動(dòng)添加。

此外，“SOA”（半導(dǎo)體光放大器）也是一個(gè)具有自適應(yīng)功能的通用結(jié)構(gòu)單元。在集成光路設(shè)計(jì)中，“Opto Designer5”軟件會(huì)結(jié)合實(shí)際設(shè)計(jì)需要，對(duì)定義在淺刻蝕層的波導(dǎo)過(guò)渡結(jié)構(gòu)進(jìn)行自動(dòng)放置，以此確保集成光路能夠高效在不同半導(dǎo)體制造技術(shù)間實(shí)現(xiàn)順利轉(zhuǎn)換[4]。

結(jié)束語(yǔ)

綜上所述，本研究重點(diǎn)描述了“ASPIC設(shè)計(jì)”在“HHI”和“Oclaro”兩個(gè)不同平臺(tái)中相互轉(zhuǎn)換的過(guò)程。通過(guò)找到同時(shí)存在于兩個(gè)不同晶圓廠的“BBs”，以此確保兩個(gè)設(shè)計(jì)相關(guān)功能具有一定的相似性。與此同時(shí)，基于此種優(yōu)化、設(shè)計(jì)方式，也有效提高了“ASPIC設(shè)計(jì)”在不同晶圓廠進(jìn)行轉(zhuǎn)換的效率，更大大縮短了遠(yuǎn)端接入點(diǎn)集成光子芯片的設(shè)計(jì)周期。

[1]K.Welikow,A.Sosa等.針對(duì)60G赫茲無(wú)線連接的集成遠(yuǎn)端光接入單元的設(shè)計(jì)[J].集成電路應(yīng)用,2016,33（3）：25-28。

[2]M.Smit et al.Generic foundry model for InP-based photonics [J].IETOptoelectronics,vol.5,Iss.5,pp.187-194,2011.

[3]http：∕∕paradigm.jeppix.eu.

[4]http：∕∕www.phoenixbv.com.

常麗媛。