基于環(huán)形磁場勵(lì)磁的兩面磁力拋光試驗(yàn)研究*

阮日新，羅　虎，王永強(qiáng)，陳逢軍，胡　天，尹韶輝?

(1.湖南大學(xué) 國家高效磨削工程技術(shù)研究中心，湖南 長沙　410082;2.長沙納美特超精密制造技術(shù)有限公司，湖南 長沙　410082 )

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基于環(huán)形磁場勵(lì)磁的兩面磁力拋光試驗(yàn)研究*

阮日新1，羅虎1，王永強(qiáng)1，陳逢軍1，胡天2，尹韶輝1?

(1.湖南大學(xué) 國家高效磨削工程技術(shù)研究中心，湖南 長沙410082;2.長沙納美特超精密制造技術(shù)有限公司，湖南 長沙410082 )

摘要：磁力拋光多數(shù)以單面拋光為主，較少有雙面同時(shí)有效拋光方式.本文提出了基于環(huán)形磁場勵(lì)磁的磁力拋光新工藝，該方法可以同時(shí)有效拋光兩個(gè)表面.通過設(shè)計(jì)能勵(lì)磁環(huán)形磁場的電磁鐵，并進(jìn)行三維有限元仿真分析，搭建了環(huán)形磁場雙面拋光裝置.利用該平臺(tái)進(jìn)行不銹鋼兩面拋光工藝試驗(yàn)研究，探討了電流強(qiáng)度、磁極與工件間間隙、主軸轉(zhuǎn)速和拋光時(shí)間工藝等參數(shù)對(duì)表面粗糙度Ra的影響.得出表面粗糙度Ra隨著拋光時(shí)間、工作間隙、工件轉(zhuǎn)速的增大而減小.設(shè)計(jì)正交實(shí)驗(yàn)方案得出合理的兩面磁力拋光工藝參數(shù)，并最終取得了具有良好表面粗糙度Ra的兩面工件樣品.試驗(yàn)證明，該方法可以同時(shí)對(duì)工件的兩個(gè)表面進(jìn)行拋光，兩個(gè)表面的表面粗糙度Ra由最初0.2 μm下降到Ra(S)=0.094 μm和Ra(N)=0.068 μm.

關(guān)鍵詞：磁力研磨；環(huán)形磁場；兩面拋光；磁場仿真

磁力拋光加工具有比較好的柔性、自適應(yīng)性、自銳性、可控性，無須進(jìn)行工具磨損補(bǔ)償與修形[1].磁力拋光克服了傳統(tǒng)精密研磨拋光方法在加工非規(guī)則形狀的容器內(nèi)壁、彎管內(nèi)表面、微細(xì)管內(nèi)面，去除內(nèi)孔毛刺、交叉孔毛刺，拋光模具復(fù)雜曲面等方面的不足[2].磁力拋光對(duì)于解決復(fù)雜型面光整加工有特定的優(yōu)勢(shì)，近年來引起了廣泛重視[3].

國內(nèi)外已研究出多種磁力研磨拋光工藝.前蘇聯(lián)于20世紀(jì)70年代，研制出了8MN系列平面磁力研磨機(jī)床，開發(fā)了平面磁力拋光工藝[2].日本學(xué)者Shinmura將磁力拋光工藝拓展至加工外圓、內(nèi)圓、曲面、球面等難加工工件，并對(duì)相應(yīng)的磁力加工原理、不同參數(shù)下光整加工特性和影響因素進(jìn)行了研究[4-7].尹韶輝等借助振動(dòng)與磁力拋光復(fù)合方法對(duì)復(fù)雜凹凸類零件進(jìn)行拋光，認(rèn)為磨料顆粒大小影響工件內(nèi)部表面質(zhì)量素[8-9].Jeong-Du Kim等為實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制磁力拋光，研制了基于計(jì)算機(jī)控制的旋轉(zhuǎn)磁場磁力研磨加工系統(tǒng)[10].胡德金等設(shè)計(jì)了新型回轉(zhuǎn)磁場裝置，能同時(shí)產(chǎn)生往復(fù)磁場和回轉(zhuǎn)磁場，并對(duì)多種材料管狀工件內(nèi)表面進(jìn)行了磁力拋光試驗(yàn)[11-12].許雪峰等提出了一種磁性復(fù)合磨?；瘜W(xué)機(jī)械拋光新工藝[13].

另一方面，磁力拋光較低的加工效率是制約其走向工業(yè)應(yīng)用的重要原因.為提高磁力拋光技術(shù)的效率，國內(nèi)外學(xué)者做了一些研究.如Shinmura在對(duì)磁力拋光原理和工藝進(jìn)行深入的理論分析后，研究了加工間隙、磁場強(qiáng)度、磁性磨粒的成分和粒度、磨料與工件的相對(duì)移動(dòng)速度等因素對(duì)加工效率和質(zhì)量的影響[14-15].尹韶輝等在利用振動(dòng)輔助對(duì)鎂合金進(jìn)行磁力拋光試驗(yàn)時(shí)，加工工件的表面質(zhì)量和去除量得到提高[16].李億勛等人借助二維振動(dòng)對(duì)304不銹鋼進(jìn)行磁力研磨實(shí)驗(yàn)，實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，二維振動(dòng)磁力研磨不僅能提高工件的表面質(zhì)量，而且能提高去除效率[17].

目前磁力拋光主要以單面拋光為主，對(duì)同時(shí)雙面拋光研究較少.雙面拋光能明顯縮短拋光時(shí)間，有利于生產(chǎn)效率的提高.本文提出一種基于環(huán)形磁場輔助的磁力拋光新工藝，可以同時(shí)對(duì)相應(yīng)零件進(jìn)行雙面拋光，通過采用田口法設(shè)計(jì)正交試驗(yàn)方案，對(duì)電流強(qiáng)度、工作間隙、主軸轉(zhuǎn)速和加工時(shí)間等參數(shù)進(jìn)行工藝實(shí)驗(yàn)研究.

1雙面磁力拋光原理及裝置

環(huán)形磁場兩面磁力拋光原理如圖1所示，主要包括電磁鐵、夾具、工件軸.環(huán)形間隙中填滿拋光粉.工件裝夾在一個(gè)特定尺寸圓盤形夾具上，該夾具與立式銑床的主軸相連，夾具和工件可以隨著立式銑床的主軸旋轉(zhuǎn)，并且旋轉(zhuǎn)速度可以調(diào)節(jié).工件與電磁鐵鐵芯間的距離為工作間隙δw.磁力拋光加工時(shí)，電磁鐵接通直流電源后，鐵粉顆粒在環(huán)形磁場中組成一條條沿徑向分布的磁鏈，從而形成強(qiáng)粘度的磁力刷.當(dāng)工件在環(huán)形間隙中作切割磁鏈運(yùn)動(dòng)時(shí)，使原來一條沿徑向分布的磁鏈斷裂成兩條，從而形成了兩個(gè)微小刷頭；這兩條暫時(shí)斷裂的磁鏈在磁場的作用下有相互愈合的趨勢(shì)，會(huì)擠壓均勻分布于這些磁力刷頭之中的磨粒，使磨粒與工件的兩個(gè)表面相互作用實(shí)現(xiàn)材料的去除，以達(dá)到同時(shí)光整加工工件兩個(gè)表面的目的.

圖1　雙面磁力拋光原理圖

勵(lì)磁系統(tǒng)是磁力拋光實(shí)驗(yàn)裝置的關(guān)鍵，其主要包含具有環(huán)形間隙結(jié)構(gòu)的電磁鐵，電磁鐵主要由直流電源、線圈、鐵芯、導(dǎo)磁板等組成.當(dāng)提供一個(gè)直流電流給線圈后，線圈環(huán)繞的鐵芯會(huì)被磁化，形成一個(gè)圓柱形磁鐵.當(dāng)鐵芯與純鐵材料制成的導(dǎo)磁板相連時(shí)，電磁鐵會(huì)經(jīng)由導(dǎo)磁板間形成一個(gè)閉合回路.如果將上導(dǎo)磁板開一個(gè)圓孔，使圓孔與圓柱鐵芯同心且保留一定的間隙，當(dāng)該間隙很小時(shí)，不會(huì)影響磁路的形成，這樣在上導(dǎo)磁板與鐵芯間會(huì)形成一個(gè)徑向的環(huán)形磁場.改變通往線圈電流的大小可以得到不同磁場強(qiáng)度的環(huán)形磁場，電流可調(diào)節(jié)的范圍是0.25 A至6 A.

磁力拋光試驗(yàn)裝置由立式銑床和自行研制的勵(lì)磁裝置組成，如圖2所示.

圖2　磁力拋光試驗(yàn)裝置

2磁場有限元分析

2.1Maxwell有限元仿真模型及結(jié)果

使用Maxwell軟件建立勵(lì)磁電磁鐵三維有限元分析模型如圖3所示.該模型中鐵芯和導(dǎo)磁板的材料都選工業(yè)純鐵.線圈匝數(shù)為300，厚度為90 mm，線圈的軸向長度為100 mm；工業(yè)純鐵的相對(duì)磁導(dǎo)率根據(jù)純鐵的含鐵量分為6 000到240 000不等，本文選用默認(rèn)值10 000；空氣的相對(duì)磁導(dǎo)率為1.采用軟件默認(rèn)方式自動(dòng)生成網(wǎng)格，激勵(lì)源為電流，大小為3 A.對(duì)于3D靜磁場分析，以空氣環(huán)境包圍整個(gè)區(qū)域的求解域，與所需要的磁場邊界條件滿足無限遠(yuǎn)邊界條件.

經(jīng)過仿真計(jì)算，得到電磁鐵的磁場強(qiáng)度分布如圖4所示，環(huán)形間隙的磁感應(yīng)強(qiáng)度介于1.25 T至1.43 T.圖4(a)顯示電磁鐵在其環(huán)形間隙處形成的磁場強(qiáng)度均在1 T以上，且沿徑向方向分布均勻.磁場分布越均勻，磁力拋光時(shí)形成的剪切力變化越小，對(duì)工件原有的表面形狀精度影響就越小.能使工件在保持原有形狀精度的條件下，快速提高其表面粗糙度Ra，獲得高精度、高質(zhì)量的表面.圖4(b)是磁場在環(huán)形間隙中沿縱向方向的磁感應(yīng)強(qiáng)度分布，磁感應(yīng)強(qiáng)度可以明顯分為三個(gè)梯度，環(huán)形間隙上部縱向均勻性較好，環(huán)形間隙底部均勻性稍差.雙面磁力拋光時(shí)，工件主要位于環(huán)形磁場的上部磁場中加工，有利于提高拋光表面各點(diǎn)的材料去除率和表面質(zhì)量的均勻性.

圖3　電磁鐵三維仿真模型

(a)

(b)

2.2Maxwell有限元仿真數(shù)學(xué)基礎(chǔ)

麥克斯韋方程組是適用于所有宏觀電磁現(xiàn)象的數(shù)學(xué)模型，是電磁場理論的基礎(chǔ)，也是工程電磁場數(shù)學(xué)分析的出發(fā)點(diǎn).麥克斯韋方程組微分形式：

(1a)

(1b)

高斯電通定律:▽·D=ρ,

(1c)

高斯磁通定律:▽·Β=0,

(1d)

(1e)

式中：H為磁場強(qiáng)度，A/m；J為電流密度，A/m2；D為電通量密度，C/w2；E為電場強(qiáng)度，V/m；B為磁感應(yīng)強(qiáng)度，T；ρ為電荷密度，C/m3.

聯(lián)立方程(1c)和(1d)即可得電磁場靜磁場分析的方程組：

(1f)

以上方程組是電磁場有限元方法分析的理論基礎(chǔ).有限元法以變分原理為基礎(chǔ)，把要求解的微分方程型數(shù)學(xué)模型應(yīng)用于有限元計(jì)算中，通常先將方程化為二階方程,再將二階方程進(jìn)行有限元數(shù)值求解.三維靜磁場的二階齊次方程組為：

(1g)

式中ε為介質(zhì)的介電常數(shù)，F(xiàn)/m；δ為介質(zhì)的電導(dǎo)率，S/m；μ為介質(zhì)的磁導(dǎo)率，H/m；φ為標(biāo)量電勢(shì).對(duì)于各項(xiàng)同性介質(zhì)，ε,δ和μ是標(biāo)量；對(duì)于各項(xiàng)異性介質(zhì)，ε,δ和μ是張量.

2.3磁感應(yīng)強(qiáng)度測(cè)量

為驗(yàn)證仿真數(shù)據(jù)的可靠性，測(cè)量在離電磁鐵上端面向下5 mm處，由N極向S極沿徑向方向測(cè)量環(huán)形間隙中的磁感應(yīng)強(qiáng)度的分布情況，如圖5所示.可以看出沿徑向方向磁感應(yīng)強(qiáng)度先減小后增大，且關(guān)于間隙中心對(duì)稱，但靠近N極的磁場強(qiáng)度略大于S極.磁場在空氣中衰減很快，距離導(dǎo)磁板和鐵芯越遠(yuǎn)，磁感應(yīng)強(qiáng)度越弱，故環(huán)形間隙中心磁感應(yīng)強(qiáng)度最小.圓柱電磁鐵形成的磁感應(yīng)線從圓柱鐵芯出發(fā)，經(jīng)導(dǎo)磁板和環(huán)形間隙，最后回到鐵芯形成一個(gè)閉合回路，在這個(gè)過程中空氣的相對(duì)磁導(dǎo)率遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于鐵芯和導(dǎo)磁板，故產(chǎn)生的磁場在環(huán)形間隙中衰減最快，使N極附近磁場強(qiáng)度略大于S極，形成一個(gè)類似“V”型的磁場.

磁感應(yīng)強(qiáng)度介于1.08 T～1.26 T，與仿真計(jì)算值1.25 T～1.43 T誤差為11.8%～13.6%.由于實(shí)際所用的材料屬性，機(jī)械加工過程中的開孔、螺紋等，與有限元模型有偏差；數(shù)學(xué)模型也不可能完全如實(shí)反映實(shí)際模型的數(shù)學(xué)關(guān)系，故該誤差是可以接受的.

距離/mm

3拋光試驗(yàn)條件

3.1試驗(yàn)材料

選擇不導(dǎo)磁材料SUS202不銹鋼薄片(25×60×3)為試驗(yàn)材料.實(shí)驗(yàn)工件預(yù)先用傳統(tǒng)方法進(jìn)行拋光，使其表面粗糙度Ra值約為0.2 μm.

3.2試驗(yàn)方案

為研究拋光時(shí)間對(duì)工件表面粗糙度Ra的影響，選取一不銹鋼薄片進(jìn)行磁力拋光試驗(yàn).試驗(yàn)前，測(cè)量其表面粗糙度Ra，隨后每加工30 min后，測(cè)量其表面粗糙度Ra，直至加工時(shí)間到180 min.整個(gè)過程保持試驗(yàn)條件I=2 A,δw=3 mm,n=100 r/min與裝夾條件不變.

選取工作間隙δw,轉(zhuǎn)速n,加工時(shí)間t作為試驗(yàn)參數(shù)，實(shí)驗(yàn)方案按照田口法設(shè)定，按照3個(gè)變量和3個(gè)水平變化，如表1所示.選用正交表L9(33)進(jìn)行正交實(shí)驗(yàn).試驗(yàn)中，將工件靠近電磁鐵是南極S面的表面粗糙度記為Ra(S)，靠近電磁鐵北極N面的記為Ra(N).

表1　磁力拋光參數(shù)及水平

4試驗(yàn)結(jié)果與分析

4.1拋光時(shí)間對(duì)表面粗糙度Ra的影響試驗(yàn)

試驗(yàn)前用砂紙對(duì)選取的不銹鋼薄片進(jìn)行拋光，以保證其兩面表面粗糙度值相近，約0.3 μm.試驗(yàn)結(jié)果如圖6所示.

時(shí)間t/min

由圖知，表面粗糙度Ra隨著拋光時(shí)間的延長，先急劇減小，后減小緩慢，最后趨向于飽和.拋光初期，工件原始表面質(zhì)量差，工件表面絕大部分尖銳凸起部分與磨粒相互作用被去除，表面粗糙度Ra值下降較快；隨著拋光的進(jìn)行，工件表面越來越光滑，磨粒與工件的相互作用越來越弱，表面粗糙度Ra值下降放緩；隨后，受到磨粒本身粒度的限制，拋光時(shí)間增長，表面粗糙度Ra值達(dá)到飽和狀態(tài).

60 min前，Ra(S)值下降得比Ra(N)快；60 min以后，Ra(S)值下降得比Ra(N)慢，并且先達(dá)到飽和狀態(tài)，且最終Ra(S)飽和值比Ra(N)飽和值大.這是因?yàn)楫?dāng)δw為3 mm時(shí)，近S極面磁感應(yīng)強(qiáng)度比近N面要大，從而磁力拋光時(shí)磨粒受到磁鏈的壓力越大，使得磨粒與工件表面相互作用的剪切力越大，使前期去除工件表面材料更多，故拋光初期近S極表面粗糙度值下降得快，拋光后期Ra(S)值先達(dá)到飽和值.表面粗糙度值與磨粒切入深度有關(guān)，切入深度越大，表面粗糙度值越大.磨粒的切入深度與磨粒所受到的壓力有關(guān)，壓力越大，磨粒切入工件表面越深，而雙面磁力拋光中，壓力受環(huán)形磁場中磁感應(yīng)強(qiáng)度的控制，磁感應(yīng)強(qiáng)度越強(qiáng)，形成的磁鏈對(duì)磨粒的壓力就越大，故Ra(S)飽和值比Ra(N)飽和值大.

4.2不銹鋼磁力拋光優(yōu)化試驗(yàn)

采用正交法進(jìn)行試驗(yàn)，分析工藝參數(shù)δw，n，t對(duì)拋光后不銹鋼表面粗糙度Ra的影響，并得出三因素三水平下最優(yōu)工藝參數(shù)組合.選用L9(33)作為試驗(yàn)分析的正交表，試驗(yàn)結(jié)果如表2所示.

表2　不銹鋼拋光方案與結(jié)果

由表2知，三個(gè)因素每個(gè)水平均出現(xiàn)三次，為減少試驗(yàn)過程中誤差對(duì)試驗(yàn)結(jié)果的影響，取三次的平均值進(jìn)行分析，結(jié)果如圖2所示.

水平數(shù)

由圖7知，Ra(S)普遍比Ra(N)大，這是因?yàn)榻黃極加工工件表面的磁感應(yīng)強(qiáng)度大于近N極的緣故，磁感應(yīng)強(qiáng)度越大，磁性顆粒擠壓拋光顆粒作用于工件表面的壓力越大，故磨粒切入越深，磨粒刮擦、劃刻工件表面留下的痕跡越深，因而表面粗糙度值越大.

表面粗糙度Ra隨著拋光時(shí)間、工作間隙、工件轉(zhuǎn)速的增大而減小.拋光時(shí)間越長，磁力拋光作用越充分，故表面粗糙度Ra?。还ぷ鏖g隙越大，環(huán)形間隙中的磁感應(yīng)強(qiáng)度越小，形成的磁鏈對(duì)磨粒的壓力越小，磨粒切入工件表面的深度越淺，因而磁力拋光后殘留的痕跡越淺，故表面粗糙度Ra??；工件轉(zhuǎn)速越高，單位時(shí)間內(nèi)與工件表面相互作用的磨粒數(shù)量越多，提高了拋光效率，磁力拋光更充分.

工作間隙δw，拋光時(shí)間t和轉(zhuǎn)速n對(duì)Ra(S)和Ra(N)的影響趨勢(shì)相同，故δw=3.5 mm，t=60 min，n=120 r·min-1時(shí)為最優(yōu).

電流強(qiáng)度I對(duì)Ra(S)和Ra(N)的影響不同，為獲得其最優(yōu)參數(shù)，需要綜合極差分析.

表3　正交極差分析

定義指定電流I在i水平下對(duì)表面粗糙Ra(S)和Ra(N)的影響率CI1,i，CI2,i為：

CI1,i=(BI1-Bmin 1)/RB1，

(2)

CI2,i=(BI2-Bmin 2)/RB2.

(3)

其中BI為指定電流在i水平下的表面粗糙度Ra，Bmin和RB分別為該電流和時(shí)間三個(gè)水平下的最小表面粗糙度Ra和表面粗糙度Ra極差.CI,i越小，表示指定電流在i水平下對(duì)表面粗糙度Ra的影響程度越小，可獲得的表面粗糙度Ra越小.根據(jù)式(2)，式(3)和表3計(jì)算電流在各水平下對(duì)表面粗糙度Ra的影響率，如表4所示.

表4　電流I對(duì)表面粗糙度Ra的影響率

定義指定電流在i水平下對(duì)表面粗糙度Ra(S)和Ra(N)的綜合影響率CI，i為：

CI，i=CI1,i+CI2,i.

(4)

CI,i越小，表示該電流強(qiáng)度水平下對(duì)表面粗糙度Ra(S)和Ra(N)的綜合影響率影響越小，此時(shí)，可獲得較小的Ra(S)和Ra(N).根據(jù)式(4)對(duì)表4求和，計(jì)算電流I各水平下對(duì)表面粗糙度Ra(S)和Ra(N)的綜合影響率，如表5所示.

表5　電流I對(duì)表面粗糙度Ra1和Ra2的綜合影響率

取綜合影響率最小值確定電流I為I2.因此尺寸的理想組合為I2t3δ1n3，即：I=2.5 A，t=60 mim，δw=3.5 mm，n=120 r·min-1.

4.3試驗(yàn)驗(yàn)證

為驗(yàn)證優(yōu)化后工藝參數(shù)的可靠性，保持其它條件不變，在最優(yōu)參數(shù)即：I=2.5 A,t=60 mim,δw=3.5 mm,n=120 r·min-1條件下進(jìn)行試驗(yàn).獲得了最好的試驗(yàn)結(jié)果：Ra(S)=0.094 μm和Ra(N)=0.068 μm，小于磁力拋光工藝試驗(yàn)表面粗糙度Ra.不銹鋼薄片兩面拋光后與原不銹鋼薄片實(shí)物對(duì)比圖如圖8所示.

圖8　磁力拋光前后對(duì)比

圖9　不銹鋼微觀形貌(×2500)

拋光時(shí)間40 min后，在VHX-1000超景深三維數(shù)碼顯微鏡2 500倍下測(cè)量的結(jié)果如圖9所示.拋光前，經(jīng)過粗加工的不銹鋼表面質(zhì)量非常差，表面損傷嚴(yán)重，加工后殘留痕跡多.拋光40 min后，絕大部分表面損傷已經(jīng)被去除，僅留下少量較深的痕跡.由于近S面磁感應(yīng)強(qiáng)度比近N面要大，故Ra(S)=0.094 μm大于Ra(N)=0.068 μm.

5結(jié)論

1)提出了一種基于環(huán)形磁場的磁力拋光方法，可以同時(shí)對(duì)工件的兩個(gè)表面進(jìn)行拋光，以不銹鋼薄片作為試驗(yàn)材料進(jìn)行試驗(yàn)，兩個(gè)表面的表面粗糙度Ra得到大幅降低.

2)設(shè)計(jì)正交試驗(yàn)方案，進(jìn)行工藝試驗(yàn)，得到環(huán)形磁場下磁力拋光最優(yōu)工藝參數(shù)并進(jìn)行試驗(yàn)驗(yàn)證，最終得到Ra(S)=0.094 μm和Ra(N)=0.068 μm的試驗(yàn)結(jié)果.

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Experimental Study on Double-surface Magnetic Abrasive Polishing Excited by Toroidal Magnetic Field

RUAN Ri-xing1,LUO Hu1,WANG Yong-qiang1,CHENG Feng-jun1,HU Tian2,YIN Shao-hui1?

(1.National Engineering Research Center for High Efficiency Grinding,Hunan Univ,Changsha,Hunan410082,China;2.Changsha Nameite Ultra Precision Manufacturing Technology Company,Changsha,Hunan410082,China)

Abstract:Traditional magnetic abrasive polishing process is only suitable for processing one side of the workpiece, but it cannot polish double-surface at the same time. To overcome the shortcomings of current methods, this paper presented a new magnetic polishing process based on annular magnetic field, which can polish both sides of the workpiece simultaneously. Electromagnet with annular magnetic field was designed, and then finite element simulation analysis was carried on. In order to further explore the effect of current intensity, the clearance between the magnetic pole and the workpiece, the spindle speed and polishing time on surface roughness, double-surface polishing experiments were carried out on the material of stainless steel. It was concluded that the surface roughness Ra decreased with the increase of polishing time, working gap and spindle speed. Orthogonal test scheme was designed to obtain the reasonable process parameters and experimental verification was made. Finally, a good surface roughness on both sides was obtained. The experiment has proved that the method can polish both sides of the workpiece surface at the same time, and the surface roughness Ra of two surfaces decreases from the original 0.2 μm to Ra (S) = 0.094μm and Ra (N) = 0.068μm respectively.

Key words:magnetic abrasive finishing; toroidal magnetic field; double-surface polishing; magnetic simulation

中圖分類號(hào)：TH161

文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A

作者簡介：阮日新(1974-)，男，越南河內(nèi)人，河內(nèi)工業(yè)大學(xué)講師，湖南大學(xué)博士研究生?通訊聯(lián)系人，E-mail:yinshaohui@hnu.edu.cn

收稿日期：2015-01-28基金項(xiàng)目：國家自然科學(xué)基金資助項(xiàng)目(51205120)，National Natural Science Foundation of China(51205120)；國際科技合作項(xiàng)目(2012DFG70640)

文章編號(hào)：1674-2974(2016)04-0031-07