董必堅,金亞旭,房大慶,李秋書
(太原科技大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,山西 太原 030024)
金屬轉(zhuǎn)化膜又稱化學(xué)轉(zhuǎn)化膜,它是通過金屬(包括鍍層金屬)的表層原子與介質(zhì)中陰離子之間的相互反應(yīng),在金屬的表面生成具有較好附著力的隔離層。金屬轉(zhuǎn)化膜作為防腐蝕、耐磨、減摩和其他功能性的表面覆蓋層,已經(jīng)廣泛應(yīng)用于機(jī)械、電子、兵器、航空和儀器儀表等工業(yè)部門。
由于具有低密度、高能量吸收率、高比強(qiáng)度等性能,鎂合金被譽(yù)為21世紀(jì)的綠色工程材料,在各個方面具有極廣泛的應(yīng)用[1-3]。然而,耐蝕性較差是制約鎂合金應(yīng)用的主要因素。所以,適當(dāng)?shù)谋砻嫣幚韺υ鰪?qiáng)鎂合金的耐蝕性具有重要的現(xiàn)實意義。金屬轉(zhuǎn)化膜處理因其操作簡單、成本低廉,是鎂合金防腐蝕的有效方法。許越等人研究發(fā)現(xiàn),在潮濕溫?zé)釛l件下稀土鈰轉(zhuǎn)化膜具有較好的完整性和較高的覆蓋度,對鎂合金表面的腐蝕過程有明顯的抑制作用[4]。王明等人研究表明在植酸化學(xué)轉(zhuǎn)化液中加入添加5g/LCe(NO3)3.6H2O可以獲得更為優(yōu)異的耐蝕膜[5]。
本文主要采用硝酸鈰和硝酸鑭混合轉(zhuǎn)化液對AZ91鎂合金進(jìn)行轉(zhuǎn)化處理,經(jīng)過正交實驗討論了硝酸鈰和硝酸鑭混合溶液濃度比、成膜溫度、溶液的pH值和H2O2用量四影響因素的主次順序,得出優(yōu)化的成膜工藝,并測試其耐蝕性及膜層成分。
本研究所選用AZ91鎂合金成分如下:ω(Mg):93.87%-96.47%,ω(Al):2.5%-3.5%,ω(Mn):0.2%-1.0%,ω(Zn):0.6%-1.4%,ω(Si)=0.1%,ω(Cu)=0.05%,ω(Ni)=0.005%,ω(Fe)=0.005%,ω(Ca)=0.04%,其余成分質(zhì)量分?jǐn)?shù)約為0.03%.試樣規(guī)格為20mm×10mm×3mm,采用環(huán)氧樹脂填封,暴露工作面積為2cm2.用砂紙逐級打磨工作面至1000#,脫脂棉蘸酒精除油,蒸餾水清洗后用冷風(fēng)吹且密封保存在干燥箱。
鎂合金稀土轉(zhuǎn)化膜主要影響因素為鈰鹽與鑭鹽比例,H2O2用量,成膜溫度,處理液的pH值。采用正交實驗優(yōu)化成膜工藝,選擇四因素三水平進(jìn)行正交實驗設(shè)計,因素水平見表1.
表1 成膜因素及其水平
成膜時間統(tǒng)一為30min,H2O2濃度以質(zhì)量分?jǐn)?shù)計。
進(jìn)行L9(34)正交實驗,評價標(biāo)準(zhǔn)為將一滴1%NaCl與0.1%的酚酞混合溶液滴在各條件下制備的轉(zhuǎn)化膜上變色的時間,以此確定四因素最優(yōu)組合。
稀土轉(zhuǎn)化膜的形貌和組成的表征分別采用JSM-5900LV掃描電子顯微鏡(日本電子株式會社)和Y-500X射線衍射儀(丹東射線有限公司)。
試樣的點滴實驗按HB5061277標(biāo)準(zhǔn)操作。浸泡腐蝕實驗采用的腐蝕介質(zhì)為3.5%NaCl溶液,實驗溫度為室溫。交流阻抗的測試在PGSTAT301型電化學(xué)工作站上進(jìn)行,交流正弦激勵信號的幅值為5 mV,測試頻率的范圍為10-1Hz~105Hz,電解質(zhì)為3.5%NaCl溶液(pH=7).
正交實驗結(jié)果及數(shù)據(jù)分析見表2.
表2 正交實驗表及其數(shù)據(jù)分析
由表2可知,根據(jù)點滴實驗時間的極差大小確定各個因素對鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)化膜耐蝕性影響的顯著性大小順序為:D>B>C>A.可以看出,影響鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)換膜耐蝕性的主要因素是處理液的pH值和H2O2的用量。確定最佳方案為:A2-B2-C1-D3.其優(yōu)化工藝參數(shù)為:處理溫度為30℃,硝酸鈰:硝酸鑭=2:1,H2O2用量為5ml,pH值4~5.
圖1為不同工藝條件下所制得鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)化膜的SEM形貌??梢钥闯?,本試驗所得的鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)化膜均呈龜裂狀,有較深的裂紋。膜層均為多層片狀結(jié)構(gòu),但沒有裸露的鎂合金基體,膜層表面裂紋的原因可能是成膜后干燥處理時產(chǎn)生的殘余應(yīng)力所致[6]。其中圖1a) 為在最佳工藝條件A2-B2-C1-D3下所制得的稀土轉(zhuǎn)化膜,可以看出其裂紋寬度均勻而且最窄,而圖1b)~d)在其他工藝條件下制得的稀土轉(zhuǎn)化膜裂紋寬度大,而且膜層出現(xiàn)了不同程度的脫落現(xiàn)象。
圖1 不同工藝條件下AZ91 鎂合金雙稀土轉(zhuǎn)化膜SEM 像
本試驗的鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)化膜成膜過程及成膜形貌形成原因如下:(1)成膜初期(0min~5min):試樣放入稀土鹽轉(zhuǎn)化液中,鎂合金基體表面立即產(chǎn)生少量氣泡,快速形成一層淡黃色的薄膜。這是由于鎂合金比較活潑,立刻在基體表面形成無數(shù)的微電池,導(dǎo)致表面溶液局部pH值升高,溶液中稀土金屬離子在鎂合金表面生成一層較薄的稀土轉(zhuǎn)化膜沉積在基體表面;(2)成膜中期(5min~20min):此階段為穩(wěn)定生長階段,膜層越來越致密,厚度逐漸增加,基體表面產(chǎn)生的氣泡量越來越小,隨著化合物的沉積,膜層顏色逐漸加深,由淺黃色變?yōu)槊鼽S色。在此階段,基體上稀土氧化物和氫氧化物繼續(xù)沉積,隨著轉(zhuǎn)化膜不斷致密增厚,轉(zhuǎn)化膜生成反應(yīng)受到抑制,轉(zhuǎn)化膜生長幾乎停止;(3)成膜后期(20min~30min):隨著時間的增加,基體表面基本不產(chǎn)生氣泡,膜層表面出現(xiàn)粒狀沉積物。膜層孔隙增大,表面開始變得粗糙。這是由于鎂合金基體表面被稀土轉(zhuǎn)化膜全部覆蓋,表面的微電池反應(yīng)很弱,沉淀反應(yīng)緩慢。隨著試樣浸泡時間的增加,膜層開始出現(xiàn)裂紋,原因可能是此時轉(zhuǎn)化膜的生長反應(yīng)停止,溶液中的各種粒子如水分子、Cl-、OH-等向膜中滲透,造成膜層受到一定程度的破壞。
圖2為鑭鈰稀土轉(zhuǎn)化膜XRD譜。測試條件:Cu靶,管電壓35kV,管流30mA,采樣間隔0.02°,范圍:30°~85°.
圖2 鑭鈰稀土轉(zhuǎn)化膜XRD 衍射譜
由圖2可知,鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)換膜主要由MgO、CeO2、La(OH)3及Ce(OH)4組成,其中,CeO2、La(OH)3和Ce(OH)4是主要組成成分。這是由于Ce(NO3)3、La(NO3)3可以直接參與膜層的反應(yīng),當(dāng)試樣浸入Ce(NO3)3、La(NO3)3混合處理液后,在鎂合金表面形成無數(shù)微電池,導(dǎo)致表面局部的[OH-]升高,pH值上升,Ce3+、La3+與轉(zhuǎn)化液中的OH-反應(yīng)形成難溶于水的Ce(OH)3、La(OH)3,由于Ce3+在弱酸或弱堿溶液中易被氧化為更高價的Ce4+,Ce(OH)3或Ce(OH)4沉淀沉積在表面,不斷進(jìn)行。當(dāng)鑭鈰稀土轉(zhuǎn)化膜覆蓋整個表面后,反應(yīng)被抑制,轉(zhuǎn)化膜停止生長。
點滴試驗結(jié)果表明在室溫下,鎂基體耐腐蝕時間大約為10s,而在優(yōu)化工藝處理后的鑭鈰雙轉(zhuǎn)化膜的耐腐蝕時間大約為125s~135s,可見鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)化膜能較大的提高鎂合金的耐蝕性能。圖3分別是轉(zhuǎn)換膜初始、浸泡18h、26h、42h后的宏觀形貌。經(jīng)過稀土轉(zhuǎn)化膜覆蓋處理后的試樣,腐蝕過程可分為腐蝕初期和腐蝕后期兩個階段,腐蝕初期主要發(fā)生的是膜層的溶解破壞過程,這一階段析氫量較少。這是由于致密層的阻擋作用,腐蝕介質(zhì)(H2O和Cl-)不能與基體直接接觸。隨著浸泡時間的增加,開始進(jìn)入腐蝕后期,最外層轉(zhuǎn)化膜層表面裂紋逐漸變寬,轉(zhuǎn)化膜最外層逐漸脫落,可以清晰的發(fā)現(xiàn):最外層轉(zhuǎn)化膜被破壞之后,露出緊貼外層的另一層轉(zhuǎn)化膜,但這層轉(zhuǎn)化膜相對外層要薄得多,盡管存在裂紋但裂紋尺寸非常小,因此對試樣仍然起到一定程度上的保護(hù)作用,直到這層轉(zhuǎn)化膜脫落,基體才被腐蝕。很大程度上,稀土轉(zhuǎn)化膜的多層性是其耐蝕性好的一個重要原因[4]。基于以上分析可知,鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)化膜對基體能夠起到較好的防護(hù)作用。與鎂合金基體疏松、多孔的自然氧化膜相比,鑭鈰雙稀土化學(xué)轉(zhuǎn)化膜可以有效地阻止一些浸蝕性陰離子進(jìn)入鎂合金表面,從而減緩了對基體的腐蝕。
圖3 3.5%NaCl 浸泡試樣腐蝕情況
圖4是沉積稀土轉(zhuǎn)化膜前后的試樣交流阻抗譜??梢钥闯?,經(jīng)過雙稀土轉(zhuǎn)化膜(A2-B2-C1-D3)覆蓋后的試樣的交流阻抗譜基本上是一個容抗弧,而AZ91鎂合金試樣的EIS圖是兩個容抗弧組成的。這表明鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)化膜覆蓋的試樣的阻抗譜中僅有一個時間常數(shù),可能是因為其較低的孔隙率,使孔隙內(nèi)幾乎不存在表面的電化學(xué)反應(yīng),從而只有膜層外存在表面的電化學(xué)反應(yīng)。鎂合金試樣的阻抗譜中包含了兩個時間常數(shù),說明此時電解質(zhì)溶液已經(jīng)滲透到鎂合金內(nèi)部,形成了腐蝕微電池。用EvolCRT阻抗分析軟件對實驗數(shù)據(jù)擬合,得到最佳工藝條件下所得膜的極化電阻為11.41k·cm-2,而AZ91鎂合金試樣的極化電阻為5.62k·cm-2,由于腐蝕電流密度同極化電阻成反比,極化電阻越高表示膜層的耐蝕性越好。因此,鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)化膜可以明顯提升鎂合金的耐蝕性。
圖4 沉積稀土轉(zhuǎn)化膜前后的試樣交流阻抗譜
1)利用正交實驗得出優(yōu)化成膜工藝參數(shù)為:處理溫度為30℃,硝酸鈰:硝酸鑭=2∶1,H2O2用量5ml,pH值4-5.影響轉(zhuǎn)化膜的主要因素是溶液的pH值和H2O2的用量。
2) 鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)化膜主要由MgO、CeO2、La(OH)3及Ce(OH)4組成,其中CeO2、La(OH)3和Ce(OH)4是主要組成成分。
3)采用點滴實驗、浸泡腐蝕實驗和交流阻抗技術(shù)測試了鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)化膜的耐腐蝕性。結(jié)果表明,鑭鈰雙稀土轉(zhuǎn)化膜可以明顯提升鎂合金的耐蝕性。
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