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      小口徑高精度折射式光學系統(tǒng)裝調(diào)公差的分析與控制

      2015-05-29 09:19:40栗孟娟廖志波王春雨
      應(yīng)用光學 2015年2期
      關(guān)鍵詞:面形公差透鏡

      栗孟娟,廖志波,王春雨

      (北京空間機電研究所,北京100076)

      引言

      采用高精度折射式光學系統(tǒng)的對地觀測遙感器,尤其是譜段為可見光,光學系統(tǒng)要達到接近衍射極限的成像質(zhì)量,因而裝調(diào)公差要求嚴格。國外采用在同一臺高精度中心偏測量儀上進行機械加工和系統(tǒng)調(diào)心,實現(xiàn)機械軸和光軸的高度一致性,達到裝調(diào)公差。國內(nèi)由于機械和光學加工能力所限,首先將光學元件與金屬框聯(lián)結(jié)形成組件,經(jīng)過機械加工將組件的光學基準引至結(jié)構(gòu)基準,然后在中心偏測量儀上調(diào)整各組件的光軸一致性。由于折射式鏡頭不具備在裝調(diào)過程中實時測量系統(tǒng)像質(zhì)的條件,為降低裝調(diào)風險,傳統(tǒng)的公差控制是嚴格以光學設(shè)計給定公差為標準。但隨著空間光學遙感器的快速發(fā)展,裝調(diào)公差越來越嚴苛。尤其是小口徑高精度折射式光學系統(tǒng),其偏心誤差和鏡間距更加敏感,遵循以往的裝調(diào)公差分配及控制方法,會經(jīng)常發(fā)生對鏡頭組件反復(fù)裝調(diào)的情況,嚴重降低裝調(diào)效率。因此將光學設(shè)計和裝調(diào)實踐相結(jié)合對公差進行再分配和補償,對保證裝調(diào)質(zhì)量具有重要的工程意義。

      由于折射式系統(tǒng)鏡片多,各種分離誤差在裝調(diào)過程中可以相互補償,這也使得實際裝調(diào)中存在實時調(diào)整公差的可能。影響光學性能的裝調(diào)公差主要包括光學元件面形誤差、偏心誤差、鏡間距誤差等。經(jīng)過仿真計算發(fā)現(xiàn),某些透鏡組件的超差對成像質(zhì)量影響有限,或者其超差影響可由后續(xù)透鏡組件進行補償。另一方面,公差控制方法在小口徑高精度折射式光學系統(tǒng)裝調(diào)方面遇到瓶頸,包括偏心誤差和鏡間距。本文首先針對小口徑高精度折射式光學系統(tǒng)提出對裝調(diào)公差的再分配和補償方法,并以一個f=270mm的光學系統(tǒng)為例,對裝調(diào)公差的分析和控制進行了詳細闡述。

      1 裝調(diào)公差分配原則

      光學設(shè)計最初分配的裝調(diào)公差,是基于各項公差對系統(tǒng)像質(zhì)的影響權(quán)重,并參考當前的裝調(diào)工藝水平進行分配,目標是保證裝調(diào)后遙感器成像性能達標。但由于光學遙感器發(fā)展迅速,公差趨于苛刻,而折射式光學系統(tǒng)鏡片多,在當前裝調(diào)設(shè)備和工藝水平不斷發(fā)展情況下,保證所有公差滿足要求仍然是相當困難的。為提高裝調(diào)效率,本文提出的裝調(diào)公差分配原則如下:以光學設(shè)計給定公差為基礎(chǔ),根據(jù)單片透鏡組件的裝調(diào)難度及實際誤差,用仿真計算進行成像質(zhì)量預(yù)估,并利用光學系統(tǒng)各分離誤差相互間的補償,對公差進行再分配和補償,實時調(diào)整公差。

      2 裝調(diào)公差分析及控制

      以一種小口徑高精度折射式光學系統(tǒng)遙感器裝調(diào)過程為例,說明裝調(diào)公差的分析和控制方法。如圖1所示,光學系統(tǒng)為像方遠心光路,譜段為450nm~800nm,f=250mm,相對孔徑1/3.5,視場角2ω=20°,奈奎斯特頻率77lp/mm處各視場平均 MTF=0.65,要求裝調(diào)后 MTF≥0.60。光學系統(tǒng)公差分配如表1所示,各光學元件裝配為組件后面形誤差要求均為RMS=0.02λ,鏡間距公差和偏心公差在折射式光學系統(tǒng)公差中屬于相當苛刻。

      圖1 光學系統(tǒng)示意圖Fig.1 Diagram of optical system

      表1 光學系統(tǒng)公差分配Table 1 Tolerance distribution

      2.1 光學元件面形誤差分析與控制

      光學元件加工完成后已有一定的面形誤差,在組件裝配過程中可能受裝配應(yīng)力的作用而變化。小口徑透鏡組件的裝配方式一般是裸鏡進金屬框,通過彈性壓圈、膠圈進行透鏡軸向固定,側(cè)面注膠,通過干涉儀監(jiān)測透鏡面形。光學設(shè)計要求的面形誤差均為RMS=0.02λ,但實際上各片透鏡對成像質(zhì)量影響差異很大,主要與透鏡在系統(tǒng)中的位置相關(guān)。在裝配過程中發(fā)現(xiàn),透鏡1、9和12均為彎月形鏡片,彈性壓圈很容易對凸面產(chǎn)生裝配應(yīng)力,造成面形誤差明顯增大,透鏡4由于鏡片薄,也容易受到裝配應(yīng)力,這幾片透鏡反復(fù)裝配的結(jié)果都不理想。

      為了提高裝調(diào)效率,利用36項ZERNIKE系數(shù)來表征光學元件面形誤差,進行精確仿真計算,組件裝配后的透鏡1、4、9、12面形誤差對MTF的影響如圖2所示。

      圖2 透鏡面形誤差對MTF影響Fig.2 Effect of surface figure error on MTF

      由上圖得出:透鏡4的面形誤差對MTF影響最明顯,因此在組件裝配時著重控制了透鏡4的面形誤差,使其對MTF影響很小。將最后控制的各光學元件面形誤差代入模型計算,全譜段各視場MTF均值為0.631。

      2.2 光學元件偏心誤差分析與控制

      光學元件偏心誤差控制目標是實現(xiàn)所有光學元件的光軸一致性,調(diào)整過程產(chǎn)生的平移、傾斜誤差即偏心誤差,所帶來的非對稱像差是造成光學系統(tǒng)性能下降的最主要原因,所以調(diào)整偏心是整個鏡頭裝調(diào)過程中最重要的環(huán)節(jié)。偏心誤差測量原理如圖3所示,偏心角秒計算式如下:

      式中:d為CCD觀測到的偏心線量;fHEAD為中心偏測量儀目鏡焦距;fACM為測量儀物鏡焦距;rSAMPLE為被測光學元件曲率半徑。傳統(tǒng)的裝調(diào)工藝控制偏心是用單個光學表面偏心角秒為評價指標,不區(qū)分平移和傾斜誤差。但是從上式可以看出,偏心角秒與光學表面曲率半徑成反比,所以這樣的控制方法對于小曲率半徑的光學元件會遇到困難。問題本質(zhì)是以偏心角秒評價不能區(qū)分平移和傾斜誤差。對此在圖1光學系統(tǒng)裝調(diào)中引入方位誤差在線分離評價方法,即測量單個光學表面偏心角秒后計算光學元件的光軸偏差,區(qū)分平移和傾斜誤差,使測試過程與光學設(shè)計形成精確的對應(yīng)關(guān)系,實現(xiàn)了對于透鏡偏心誤差的高精度測量。

      在改進評價方法的基礎(chǔ)上,保證各光學元件的偏心公差仍然相當困難。小口徑透鏡對傾斜誤差特別敏感,而且裝配時鏡框受力變形就能造成傾斜角度的迅速改變。針對偏心誤差進行仿真計算,如口徑很小的透鏡3、4、膠合鏡(5、6),以及2個光學表面近似同心的透鏡9,計算結(jié)果如圖5、6。

      圖3 中心偏測量儀測量光路Fig.3 Light path of ecentric error measurement

      圖4 平移誤差對MTF影響Fig.4 Effect of translation error on MTF

      圖5 傾斜誤差對MTF影響Fig.5 Effect of tilt on MTF

      圖4、5表明透鏡3、4、膠合鏡的偏心對 MTF影響明顯,因此在實際裝調(diào)中嚴格控制了這幾項,并采用偏心誤差相互補償?shù)目刂品椒?,例如精確調(diào)整透鏡4的偏心方位,來補償透鏡3的偏心造成的像差。裝調(diào)后將各透鏡的偏心誤差代入光學系統(tǒng)進行仿真計算,全譜段各視場MTF均值為0.621。

      2.3 光學元件鏡間距誤差分析與控制

      鏡間距超差過多將造成光學系統(tǒng)球差過大。本文涉及的光學系統(tǒng)鏡間距公差只有±0.005±0.01mm。由于鏡間距的測量必須以偏心誤差合格為前提,要實現(xiàn)±0.005mm的公差也許要反復(fù)多日。針對系統(tǒng)中鏡間距在2mm以內(nèi)的透鏡進行仿真計算,如圖6所示。

      圖6數(shù)據(jù)說明透鏡4、5、7、8之間的鏡間距至關(guān)重要,所以在裝調(diào)時重點保證,裝調(diào)后鏡間距誤差分別為+0.004mm和-0.003mm。對其余鏡間距也采取了互相補償?shù)姆绞竭M行控制,正負互補。將系統(tǒng)所有實測鏡間距結(jié)合已有的面形誤差、偏心誤差進行仿真計算,得到全譜段各視場MTF均值為0.61,對應(yīng)632.8nm波長的各視場波前仿真干涉圖如圖7與圖8所示。

      裝調(diào)完成后用干涉儀實測各視場干涉圖如下,全譜段各視場實測MTF均值為0.603,與仿真結(jié)果基本一致。

      圖6 鏡間距誤差對MTF影響Fig.6 Effect of mirror spacing on image MTF

      圖7 仿真干涉圖Fig.7 Simulation of wavefront interferogram

      圖8 實測干涉圖Fig.8 Tested wavefront interferogram

      3 總結(jié)

      本文針對傳統(tǒng)裝調(diào)公差分配及控制方法不能滿足小口徑高精度折射式光學系統(tǒng)裝調(diào)精度和周期的問題,提出將光學設(shè)計和裝調(diào)實踐相結(jié)合,對裝調(diào)公差進行再分配和補償,然后結(jié)合實例說明該方法在實際裝調(diào)中的應(yīng)用,對裝調(diào)公差的分析,以及測量控制方法的改進。裝調(diào)結(jié)果表明了所應(yīng)用的裝調(diào)分配原則和測量控制方法能夠滿足精度和周期的要求,并適用于其他小口徑高精度折射式光學系統(tǒng)的裝調(diào)。

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