田昌貴,元宙昊
武漢工程大學(xué)資源與土木工程學(xué)院,湖北 武漢 430074
青山河位于湖北省大冶市銅錄山礦區(qū)西側(cè),該河中下游段與該礦南露天坑的距離約500m,河床流域內(nèi)的巖溶發(fā)育帶與礦區(qū)相連.礦山的長(zhǎng)期疏干排水導(dǎo)致青山河流域巖溶塌陷,洪水期河水倒灌流入礦坑.礦山曾多次采用堤壩加固、回填封堵塌陷區(qū)等方法治理,但收效甚微.地下水長(zhǎng)期對(duì)河床底部沖刷和掏蝕,導(dǎo)致每逢汛期河床便再次復(fù)活塌陷,河水和大冶湖水通過(guò)復(fù)活的塌坑、巖溶裂隙流入礦坑,嚴(yán)重威脅礦山安全生產(chǎn).為了徹底解決礦山水患問(wèn)題,采用高密度電阻率法探測(cè)了解河床底部的巖溶發(fā)育特征及礦區(qū)的地下水主徑流通道,并根據(jù)探測(cè)成果對(duì)河床底部巖溶進(jìn)行了注漿加固試驗(yàn),有效地封堵了小清河河水及礦區(qū)地下水流入礦坑的主徑流通道,消除了河床巖溶塌陷復(fù)活、洪水倒灌對(duì)礦山安全生產(chǎn)的威脅.
20世紀(jì)70年代末期英國(guó)學(xué)者Johansson提出了高密度電阻率法的最初模式(電測(cè)深偏置系統(tǒng))[1],80年代中期日本地質(zhì)計(jì)測(cè)株式會(huì)社借助電極轉(zhuǎn)換板轉(zhuǎn)換電極排列方式實(shí)現(xiàn)了野外高密度電阻率法的數(shù)據(jù)采集,80年代后期我國(guó)原地質(zhì)礦產(chǎn)部開始了高密度電阻率法及其應(yīng)用技術(shù)研究[2].高密度電阻率法的基本原理與常規(guī)直流電阻率法相同,以探測(cè)目標(biāo)體與周圍物質(zhì)導(dǎo)電性差異為基礎(chǔ),在人工電流場(chǎng)的作用下,通過(guò)觀察和分析視電阻率的變化規(guī)律來(lái)分析地質(zhì)問(wèn)題[3].高密度電阻率法可以在探測(cè)斷面上同時(shí)布置多個(gè)電極,通過(guò)電極轉(zhuǎn)換裝置控制電極的不同排列組合(如α、β、偶極、施倫貝謝和溫納-施倫貝謝等[4])可以同時(shí)完成測(cè)剖面和測(cè)深工作,可以提供更加豐富的地?cái)嗝嫘畔ⅲ欣诜治龊捅容^,見(jiàn)圖1,其中a為極間距.
圖1 高密度電阻率法電極排列示意圖Fig.1 Common arrays used for high density resistivitymethod
高密度電阻率法具有測(cè)點(diǎn)密度高,獲取信息量大,對(duì)探測(cè)對(duì)象無(wú)損傷,成果精確、工作效率高等特點(diǎn)[5].與常規(guī)電阻率法相比具有如下優(yōu)點(diǎn):①電極布設(shè)一次性完成,有助于減少因電極設(shè)置引起的干擾和故障,減小測(cè)量誤差;②通過(guò)轉(zhuǎn)換電極排列方式可獲得豐富的地電斷面信息;③采用自動(dòng)化的數(shù)據(jù)采集方式,不僅可以提高數(shù)據(jù)采集效率,還可以減小人工操作造成的誤差;④可以對(duì)資料進(jìn)行預(yù)處理并顯示剖面曲線形態(tài).
本次高密度電法探測(cè)剖面布設(shè)在銅錄山青山河兩岸和露采坑西南側(cè)半坡路面.青山河河床及其兩側(cè)為第四系沖積亞粘土,細(xì)—中砂、砂礫石巖層.結(jié)構(gòu)松散,穩(wěn)定性較差.其下為三疊系碳酸巖地層,巖溶發(fā)育,富水性強(qiáng).近地表淺部發(fā)育有溶洞、開口型的洞穴及溶溝.礦床開采過(guò)程中不斷疏排地下水,引起區(qū)域地下水位下降,溶洞、洞穴上部第四系土層失去了地下水的“浮托力”,同時(shí)在地下水潛蝕、掏空、搬運(yùn)第四系土層及溶洞、洞穴充填物的作用下,自然條件下的相對(duì)平衡遭到了破壞,導(dǎo)致河床出現(xiàn)下沉、開裂、塌陷現(xiàn)象.為了解礦區(qū)地下水流入礦坑的主徑流通道,采用了高密度電阻率法探測(cè)礦區(qū)地下巖溶分布特征及規(guī)律.
本次外業(yè)資料采集采用WGMD-9超級(jí)高密度電阻率法系統(tǒng),該系統(tǒng)具有抗干擾性強(qiáng)、自動(dòng)實(shí)現(xiàn)自然電位及電極極化補(bǔ)償、可隨時(shí)檢查接地電阻等優(yōu)點(diǎn).經(jīng)現(xiàn)場(chǎng)初步試驗(yàn)后,決定在青山河岸Ⅰ、Ⅱ號(hào)剖面采用溫納裝置,露采坑南側(cè) Ⅲ號(hào)剖面綜合采用溫納裝置、斯倫貝謝裝置.測(cè)線參數(shù)如表1所示,Ⅰ、Ⅱ、Ⅲ剖面位置如圖2、3所示.
表1 測(cè)線參數(shù)表Table 1 Survey line parameters
圖2 物探測(cè)試Ⅰ、Ⅱ號(hào)剖面位置圖Fig.2 Position of profile 1 and 2 by geophysical test
外業(yè)采集的數(shù)據(jù)經(jīng)過(guò)圓滑處理后,輸入計(jì)算機(jī)進(jìn)行二維、三維反演后獲得地電斷面信息,數(shù)據(jù)圓滑處理一般采用壞點(diǎn)剔除和滑動(dòng)平均等方法[6].二維反演計(jì)算采用基于準(zhǔn)牛頓最優(yōu)化非線性最小二乘新算法,其計(jì)算速度可以達(dá)到常規(guī)最小二乘法的10倍以上.反演結(jié)果主要通過(guò)均方誤差(RMS)來(lái)衡量[7],RMS越大,反演結(jié)果的可靠度越低.通過(guò)多次迭代可以減小均方誤差,為保證反演結(jié)果的可靠度,本次探測(cè)成果采用五次迭代反演.
Ⅰ號(hào)剖面位于青山河?xùn)|岸,外業(yè)采集的兩條溫納裝置數(shù)據(jù)剖面反演成果一致性良好,實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)可以客觀反映測(cè)區(qū)的地電條件,數(shù)據(jù)成果可靠.
高、低阻區(qū)在斷面上有清楚的反映,在斷面上存在1#、2#兩個(gè)低阻異常體(見(jiàn)圖4),根據(jù)地質(zhì)資料綜合推測(cè)兩處為強(qiáng)巖溶發(fā)育地段.1#異常體平面位置位于測(cè)點(diǎn)號(hào)53~96m處,上頂埋深約7m,下底埋深約25m,呈漏斗狀,推斷為強(qiáng)巖溶發(fā)育區(qū).2#異常體平面位置位于測(cè)點(diǎn)號(hào)115~150m處,與現(xiàn)場(chǎng)塌方處一致,異常上頂埋深28m,由于探測(cè)深度的原因,異常下部沒(méi)有閉合,下底埋深大于40m,推斷為強(qiáng)巖溶發(fā)育區(qū).
Ⅱ號(hào)剖面位于青山河西岸,平面位置與Ⅰ號(hào)剖面隔河對(duì)稱,外業(yè)采集的兩條溫納裝置數(shù)據(jù)剖面反演成果一致性良好,實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)可以客觀反映測(cè)區(qū)的地電條件,數(shù)據(jù)成果可靠.
高、低阻區(qū)在斷面上有清楚的反映,在斷面上存在3#、4#兩個(gè)物探異常體(見(jiàn)圖5),根據(jù)相關(guān)地質(zhì)資料綜合分析推斷這兩處為巖溶發(fā)育地帶.3#異常體平面位置位于測(cè)點(diǎn)號(hào)53~98m處,上頂埋深約9m,下底埋深約22m,推斷為強(qiáng)巖溶發(fā)育區(qū).4#異常體平面位置位于測(cè)點(diǎn)130~172m處,與現(xiàn)場(chǎng)塌方處一致,異常上頂埋深5m,下底埋深17m,推斷為強(qiáng)巖溶發(fā)育區(qū).
圖4 Ⅰ號(hào)剖面地質(zhì)解釋圖Fig.4 Geological interpretation of profile 1
圖5 Ⅱ號(hào)剖面地質(zhì)解釋圖Fig.5 Geological interpretation of profile 2
Ⅰ、Ⅱ號(hào)剖面所反映的地層吻合度較好.都存在兩個(gè)高阻區(qū)即兩個(gè)完整性較好的灰?guī)r巖體,其中,Ⅰ號(hào)剖面完整性較好的灰?guī)r巖體被埋深較大的巖溶隔開,Ⅱ號(hào)剖面因巖溶埋深較淺,探測(cè)成果反映兩個(gè)完整性較好的灰?guī)r巖體連成一片.1#、3#巖溶區(qū)的形態(tài)、位置、埋深基本一致,推斷為同一巖溶發(fā)育區(qū).2#、4#巖溶發(fā)育區(qū)分別與現(xiàn)場(chǎng)塌方處一致,2#巖溶發(fā)育區(qū)埋深大,4#巖溶發(fā)育區(qū)埋深小,2#巖溶發(fā)育區(qū)位置較4#巖溶發(fā)育區(qū)偏北,推斷為同一巖溶發(fā)育區(qū).該巖溶發(fā)育區(qū)走向北北東,沿南南西向下延伸,延伸深度大于40m,形成的空洞較大、較深,這正是此處塌方的原因之所在.
Ⅲ號(hào)剖面位于露采坑南側(cè)半坡路面,外業(yè)采集了兩條溫納裝置的數(shù)據(jù)剖面和一條斯倫貝爾裝置的數(shù)據(jù)剖面,三個(gè)剖面反演成果一致性良好,實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)客觀地反映了測(cè)區(qū)的地電條件,數(shù)據(jù)成果可靠.
Ⅲ號(hào)剖面存在5#、6#兩個(gè)物探異常體(見(jiàn)圖6).根據(jù)相關(guān)地質(zhì)資料,剖面所處地層:測(cè)點(diǎn)0~410m為中下三疊統(tǒng)白色中粗粒大理巖,測(cè)點(diǎn)410~590m為石英正長(zhǎng)閃長(zhǎng)玢巖,測(cè)點(diǎn)410m處附近為巖性接觸帶,接觸帶大角度傾向東南.因此,接觸帶與Ⅲ號(hào)剖面在測(cè)點(diǎn)410m處附近呈近似正交且大角度傾向大測(cè)點(diǎn)號(hào)方向.
圖6 Ⅲ號(hào)剖面地質(zhì)解釋圖Fig.6 Geological interpretation of profile 3
5#異常體平面位置位于測(cè)點(diǎn)號(hào)260~325m,上頂埋深約18m,下底埋深大于90m,異常平面呈垂向延伸、陡立狀,推斷為金屬礦化低阻體或裂隙發(fā)育帶.6#異常體平面位置位于測(cè)點(diǎn)365~450m,上頂埋深17m,下底埋深70m,異常平面近似等軸狀.該異常為復(fù)合異常體,異常的主體為礦坑陡立金屬排水管群,異常右邊界為接觸帶右邊界的反映,物探成果顯示的巖性接觸帶位置與現(xiàn)場(chǎng)地表出露的巖性接觸帶走向基本吻合,接觸帶呈大角度傾向剖面大測(cè)點(diǎn)號(hào)方向.
高密度電法重復(fù)觀測(cè)成果資料一致性良好,實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)客觀地反映了測(cè)區(qū)的地電條件,數(shù)據(jù)成果可靠.后期對(duì)青山河沿岸物探異常體進(jìn)行鉆孔驗(yàn)證,發(fā)現(xiàn)實(shí)際地質(zhì)情況與物探結(jié)果基本相符.通過(guò)對(duì)河床巖溶塌陷進(jìn)行注漿充填,封堵了小清河巖溶塌陷區(qū)與礦坑之間的主徑流通道,基本消除了豐水期洪水通過(guò)河床塌陷灌入礦區(qū)礦坑的風(fēng)險(xiǎn).本案例說(shuō)明先通過(guò)高密度電阻率法探測(cè)出巖溶分布特征及規(guī)律,然后采用帷幕注漿技術(shù)對(duì)礦區(qū)地下水流入礦坑的主徑流通道進(jìn)行重點(diǎn)封堵,不僅可以大幅降低治水成本,而且可以達(dá)到較好的堵水效果.該方法在類似巖溶礦山的地下水防治中可以推廣使用.
致 謝
感謝武漢工程大學(xué)對(duì)本研究的資助!
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