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      RG-281 堿性鋅-鎳合金工藝的研究

      2015-01-29 02:14:50呂明威
      電鍍與環(huán)保 2015年1期
      關(guān)鍵詞:鎳合金電流效率鍍液

      馬 靜, 呂明威

      (武漢奧邦表面技術(shù)有限公司,湖北 武漢430023)

      0 前言

      隨著現(xiàn)代工業(yè)和科學(xué)技術(shù)的飛速發(fā)展,人們對(duì)防護(hù)性鍍層的要求越來越高,傳統(tǒng)的純鋅鍍層已不能滿足生產(chǎn)要求。鋅-鎳合金中鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)一般為10%~15%,其耐蝕性和耐磨性為鍍鋅層的3~5倍[1]。

      本文研究了鋅-鎳合金工藝,進(jìn)行了鍍液性能和鍍層性能測試,并將最優(yōu)條件下得到的鋅-鎳合金鍍層的耐蝕性與純鋅鍍層的進(jìn)行對(duì)比。

      1 試驗(yàn)

      1.1 儀器與設(shè)備

      LZ-1型赫爾槽試驗(yàn)儀,武漢隆澤電子有限公司;501型超級(jí)恒溫水浴槽,上海圣威科學(xué)儀器有限公司;能量色散X 熒光光譜儀,江蘇天瑞儀器股份有限公司;276 mL 赫爾槽,南京整流器廠;SYD-13型電鍍陰極移動(dòng)裝置,上海實(shí)用電子研究所;SCQ-1201型超聲波清洗儀,上海聲嚴(yán)超聲波儀器有限公司;恒溫干燥箱,上海光地儀器設(shè)備有限公司;YWX/Q-150型鹽霧試驗(yàn)箱,安特穩(wěn)實(shí)驗(yàn)設(shè)備有限公司。

      1.2 鋅-鎳合金鍍液的配制

      RG-281鋅-鎳合金鍍液的配方為:氧化鋅8~12g/L,氫氧化鈉100~140g/L,RG-281 配位劑80~110mL/L,RG-281 鎳補(bǔ)加劑8~12 mL/L,RG-281光亮劑1~3mL/L,溫度20~30℃,攪拌速率3~5r/min,過濾速率4~6 循環(huán)/h,電流密度1~5A/dm2。

      鍍液的配制方法:加入1/4體積去離子水于鍍槽中,加入計(jì)量的氧化鋅,并調(diào)制成糊狀,邊攪拌邊緩慢加入計(jì)量的氫氧化鈉,與氧化鋅一起調(diào)制成清液狀態(tài)。加入去離子水至鍍槽體積的2/3處,冷卻至4℃以下。均勻加入計(jì)量的RG-281 配位劑和RG-281鎳補(bǔ)加劑的混合液,加入計(jì)量的RG-281光亮劑,補(bǔ)加去離子水至刻度,攪拌均勻,小電流電解數(shù)小時(shí),即可試鍍。

      1.3 試樣的制備

      將赫爾槽放在恒溫水浴槽中,在恒定的電流密度下試驗(yàn)。

      取厚度為0.2mm 的經(jīng)布輪拋光成鏡面的冷軋紫銅片(尺寸為5cm×5cm)作為陰極試片。

      1.4 耐蝕性試驗(yàn)

      分別采用表面積為1.0dm2、厚度為2 mm 的08F鋼板試樣,在完全相同的條件下,以2 A/dm2的電流密度電鍍30min,并進(jìn)行彩色鈍化和黑色鈍化,繼而進(jìn)行中性鹽霧試驗(yàn),記錄表面出現(xiàn)白銹和紅銹的時(shí)間[3-5]。

      1.5 鍍液分散能力試驗(yàn)

      分散能力采用赫爾槽試片法測試。在試片的中心劃一條橫線,再在中心線以上10mm 處劃一條與中心線平行的橫線,將兩線間用垂直線分隔成等距的10個(gè)方格,即每格間距10mm,棄去兩端各1格,還剩余8 格。將近陽極的高電流端的鍍層厚度記為δ1,以后依次為δ2,δ3……δ8。分散能力的計(jì)算公式為:

      式中:δi為被選擇的任一方格的鍍層厚度;δ1為1號(hào)方格的鍍層厚度。

      測試條件:槽液溫度25℃,施加電流2A,電鍍時(shí)間10min。

      1.6 電流效率試驗(yàn)

      用庫侖計(jì)測定法測試。庫侖溶液為硫酸(d=1.84g/cm3)25 mL/L,硫酸銅125g/L,己醇50 mL/L。在θ=25℃,Jk=2A/dm2的條件下,以銅片為陰極,電鍍30min。電流效率的計(jì)算公式為:

      式中:m1為鍍液中陰極增重;m0為庫侖溶液中陰極增重;K為被測鍍液陰極析出物質(zhì)的電化學(xué)當(dāng)量。

      2 結(jié)果與討論

      2.1 鍍液成分及工藝條件對(duì)鍍層中鎳的影響

      2.1.1 氧化鋅

      氧化鋅是鍍液的主鹽,提供鋅離子,可在較大的范圍內(nèi)變化。當(dāng)氧化鋅的質(zhì)量濃度過高時(shí),鍍液的分散能力和深鍍能力變差,工件尖角處鍍層粗糙,幾何形狀復(fù)雜的工件很可能出現(xiàn)陰陽面;當(dāng)氧化鋅的質(zhì)量濃度過低時(shí),沉積速率慢。本工藝中氧化鋅的質(zhì)量濃度在8~12g/L之間。

      2.1.2 氫氧化鈉

      氫氧化鈉對(duì)鋅起配位作用,促使陽極溶解,提高鍍液的導(dǎo)電性。當(dāng)氫氧化鈉的質(zhì)量濃度過高時(shí),會(huì)加速陽極溶解,電流效率下降,而且堿的濃度高,易黏附于工件表面,不易清洗干凈,影響鈍化膜的質(zhì)量,鍍層泛白;當(dāng)氫氧化鈉的質(zhì)量濃度過低時(shí),鍍液的導(dǎo)電性變差,槽電壓上升,陽極易發(fā)生鈍化,電流密度范圍變窄,鍍層發(fā)暗、粗糙。本工藝中氫氧化鈉的質(zhì)量濃度在100~140g/L之間。

      2.1.3 RG-281配位劑

      由于鋅和鎳的電極電位相差較大,兩者在溶液中無法發(fā)生共沉積[6-7]。而加入了RG-281 配位劑后,使兩者分別以配合物的形式存在,并且形成穩(wěn)定的配合物。這樣使得鋅、鎳離子配合物的沉積電位相近而發(fā)生共沉積,并且阻止鎳離子和氫氧化鈉反應(yīng)生成沉淀,從而獲得更好的鍍層。本工藝中RG-281配位劑的體積分?jǐn)?shù)在80~110mL/L之間。

      2.1.4 RG-281鎳補(bǔ)加劑

      RG-281鎳補(bǔ)加劑是鍍液中鎳離子的來源,是保證整個(gè)工藝性能良好的關(guān)鍵。鍍液中鎳的質(zhì)量濃度直接影響鍍層中鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)。本工藝中RG-281鎳補(bǔ)加劑的體積分?jǐn)?shù)在8~12mL/L之間。

      2.1.5 RG-281光亮劑

      RG-281光亮劑可改善低電流密度區(qū)的光澤度,提高鍍層的光亮度和均勻性,使鍍層的可塑性增強(qiáng);此外,還可以提高鍍液的分散能力,增大Zn2+在陰極的極化,并對(duì)Ni2+在陰極的沉積起去極化作用。本工藝中RG-281光亮劑的體積分?jǐn)?shù)在1~3mL/L之間。

      2.1.6 溫度

      適當(dāng)?shù)臏囟?,可以提高沉積速率和電流效率。溫度偏低時(shí),可增強(qiáng)陰極極化作用,但會(huì)降低電流效率,陰極析氫嚴(yán)重,使鍍層產(chǎn)生氫脆或起泡;溫度升高,鍍液的黏度下降,加快離子的擴(kuò)散速率,提高鍍液的導(dǎo)電性,電流效率也相應(yīng)地提高;但溫度過高,添加劑的吸附能力將下降,陰極極化值減小,鍍液的深鍍能力和分散能力變差,鍍層粗糙,鈍化后發(fā)霧,對(duì)合金組分影響也大。本工藝中溫度控制在20~30℃之間。

      圖1為溫度對(duì)鍍層中鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的影響。從圖1中可以看出:溫度對(duì)鍍層成分的影響不大,隨著溫度的升高,鍍層中鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)先緩慢升高然后下降。這是因?yàn)殄円褐蟹烹婋x子的遷移速率隨溫度的變化而變化。

      圖1 溫度對(duì)鍍層中鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的影響

      2.1.7 電流密度

      電流密度大,出光快。但電流密度過大,導(dǎo)致陰極電極電位更負(fù),表面活性劑發(fā)生脫附,引起鍍層粗糙、發(fā)黑,出現(xiàn)氣流、條紋,后續(xù)鈍化工序困難。電流密度過小,沉積速率慢,光亮度差。本工藝中電流密度控制在1~5A/dm2之間。

      電流密度對(duì)鍍層中鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的影響,如圖2所示。從圖2中可以看出:在很大的電流密度范圍內(nèi),鍍層中鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)都處于一個(gè)相對(duì)穩(wěn)定的狀態(tài)。故本工藝中電流密度可以取一個(gè)相對(duì)較廣的范圍。

      圖2 電流密度對(duì)鍍層中鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)的影響

      2.2 鍍液性能

      2.2.1 赫爾槽試驗(yàn)

      在不同條件下電鍍10min,結(jié)果如表1所示。

      表1 不同試驗(yàn)條件下的赫爾槽試片

      2.2.2 鍍液分散能力

      δi取δ5。用赫爾槽試片法測得鍍液分散能力為48.5%。

      2.2.3 電流效率

      用庫侖計(jì)測得m1=0.218 5g,m0=0.222 3g,鍍層中鎳的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為11.7%,計(jì)算出鍍層電化學(xué)當(dāng)量K=1.290g/(A·h)。根據(jù)公式計(jì)算得出電流效率為90%。

      常規(guī)的鋅-鎳合金槽液使用一段時(shí)間后極易老化,沉積速率明顯下降,維護(hù)困難。而本工藝通過查閱國外文獻(xiàn)改良合成路線合成的新型配位劑,解決了上述問題。加入了RG-281 配位劑后,通過長期的觀察發(fā)現(xiàn):槽液的性能穩(wěn)定,不需要調(diào)整依然能獲得外觀較好的鋅-鎳合金鍍層。

      2.3 鍍層性能

      2.3.1 結(jié)合力試驗(yàn)

      將100mm×20 mm×1 mm 的試件掛入溫度為25℃的鋅-鎳合金鍍液中,在1A 電流下電鍍15 min后取出,烘干;然后夾在臺(tái)鉗上反復(fù)彎曲至斷裂,斷口處無鍍層脫落。

      將數(shù)十個(gè)鍍鋅-鎳合金的試件烘干,將試件置于200℃的電熱烘箱中恒溫30min,取出后立即投入冷水中驟冷。試樣鍍層無起泡或脫落。

      取電鍍鋅-鎳合金并經(jīng)除氫鈍化處理后的直徑6mm 的彈簧墊圈50只套在M5的螺桿上,用扳手將螺母旋緊直至墊圈開口處壓平為止,放置24h后松開,無一脆斷。

      2.3.2 耐蝕性

      鋅-鎳合金鍍層與純鋅鍍層的耐蝕性對(duì)比結(jié)果,如表2所示。鍍層厚度為10μm。由表2可知:鋅-鎳合金鍍層的耐蝕性遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于純鋅鍍層的。

      表2 鋅-鎳合金鍍層與純鋅鍍層的耐蝕性對(duì)比

      3 結(jié)論

      本文通過大量的試驗(yàn)確定了最佳配方及工藝條件:氧化鋅8~12g/L,氫氧化鈉100~140g/L,RG-281配位劑80~100 mL/L,RG-281鎳補(bǔ)加劑8~12 mL/L,RG-281 光亮劑1~3 mL/L,20~30℃,1~5A/dm2。

      在金屬電沉積過程中,晶粒的生長會(huì)出現(xiàn)擇優(yōu)取向。電鍍純鋅時(shí),電沉積過程中結(jié)晶不細(xì)致,鍍層疏松、粗糙;而鋅-鎳合金鍍層的結(jié)晶細(xì)致了很多,外觀均勻,光澤也比較好。RG-281工藝是一種高性能堿性鋅-鎳合金工藝,所得鍍層的均鍍性、整平性極佳。利用其獨(dú)特的配位技術(shù),可以使生產(chǎn)穩(wěn)定,很長時(shí)間內(nèi)不需要調(diào)整槽液;沉積速率快,電流效率高,工藝簡單;耐蝕性是純鋅鍍層的3~6倍。

      [1]蔣彤雅,吳菊珍.電鍍耐蝕性鋅-鎳合金工藝的研究[J].電鍍與環(huán)保,2010,30(2):16-18.

      [2]BARCELO G,GARCIA J,SARRET M,etal.Properties of Zn-Ni alloy deposits from ammonium baths[J].Journal of Applied Electrochemistry,2004,24(12):1249-1255.

      [3]肖作安,費(fèi)錫明,鄒勇進(jìn).鋅鎳合金鍍層耐腐蝕性的研究[J].材料保護(hù),2005,38(3):15-17.

      [4]張安富.鋅鎳合金鍍層耐蝕性的探討[J].表面技術(shù),1997,26(4):16-18.

      [5]盧錦堂,陳錦虹,許喬瑜,等.鋅鎳合金鍍層鹽霧腐蝕行為的研究[J].材料保護(hù),1997,30(5):8-10.

      [6]馬躍宇,徐秀芝,魏緒鈞.鋅鎳合金電鍍技術(shù)的研究[J].腐蝕與防護(hù),1998,19(4):158-160.

      [7]張順清.鋅鎳合金電鍍工藝的研究[J].電鍍與環(huán)保,1989,9(6):11-13.

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