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      電鍍Cu-Mo-Ni 合金的可行性分析

      2015-01-29 02:14:50李遠會萬明攀黃碧芳張曉燕郭忠誠
      電鍍與環(huán)保 2015年1期
      關(guān)鍵詞:平衡條件熱力學(xué)水溶液

      李遠會, 萬明攀, 黃碧芳, 張曉燕, 郭忠誠

      (1.昆明理工大學(xué) 冶金與能源工程學(xué)院,云南 昆明650039;2.貴州大學(xué) 材料與冶金學(xué)院,貴州 貴陽550003)

      0 前言

      Cu-Mo假合金材料可用作電觸頭材料[1]。鉬合金的制備方法主要是粉末冶金及其衍生工藝[2]。生產(chǎn)實踐證明:電鍍法能保證含銀合金電接觸元件的質(zhì)量[3],但鍍液往往含有氰化物,且銀資源稀缺、昂貴。隨著社會推崇節(jié)約環(huán)保理念,無銀銅基電接觸新材料必將成為重要的研究對象。鎳可以改善銅基電接觸材料的質(zhì)量和使用性能[4]。目前,電鍍制備Cu-Mo-Ni合金材料還未見報道。本文擬從熱力學(xué)角度分析電鍍Cu-Mo-Ni合金的可行性。

      1 Cu-H2O體系下E-pH圖

      表1為T=298K,Cu-H2O 體系中主要考慮的反應(yīng)及根據(jù)反應(yīng)組分的熱力學(xué)數(shù)據(jù)[5]導(dǎo)出的E-pH表達式。

      表1 Cu-H2O 體系中主要反應(yīng)和平衡條件

      圖1為Cu-H2O系E-pH圖。圖1中,a-①-②線圍成的較寬區(qū)域里,無論酸性或堿性Cu2+水溶液中均能電鍍金屬Cu。本文熱力學(xué)分析只限于E-pH圖中電鍍金屬或合金的區(qū)域,a、b直線分別表示標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài)下H2、O2的平衡線,涉及的相關(guān)離子濃度均為0.1mol/L。

      圖1 Cu-H2O系E-pH圖

      2 Ni-H2O 體 系 下E-pH圖

      表2為T=298K,Ni-H2O 體系中主要考慮的反應(yīng)及根據(jù)反應(yīng)組分的熱力學(xué)數(shù)據(jù)[6]導(dǎo)出的E-pH表達式。

      表2 Ni-H2O 體系中主要反應(yīng)和平衡條件

      圖2為Ni-H2O系E-pH圖。圖2 中,a-①-②線圍成的區(qū)域里,Ni能從Ni2+水溶液中析出。但此區(qū)域相對狹窄,容易引起析氫、滲氫或電沉積氫氧化物膠體。

      圖2 Ni-H2O系E-pH圖

      3 Mo-H2O體系下E-pH圖

      Mo-H2O 體系水溶液的化學(xué)性質(zhì)較為復(fù)雜,本文考慮該體系存在的物質(zhì)主要有Mo、MoO2、及。表3為T=298 K,Mo-H2O 體系中主要考慮的反應(yīng)及根據(jù)反應(yīng)組分的熱力學(xué)數(shù)據(jù)[7]導(dǎo)出的E-pH表達式。

      圖3為Mo-H2O系E-pH圖。圖3中,a析氫平衡線在Mo的平衡線上方,說明Mo不能從水溶液中析出。參照文獻[8],將圖1和圖3簡單疊合,得到如圖4所示的Cu-Mo-H2O系EpH 疊合圖。圖4 中,a析氫平衡線上方無Cu-Mo共沉積穩(wěn)定區(qū)域。所以,水溶液不能電鍍Cu-Mo 假合金。但在Ni2+的誘導(dǎo)作用下,水溶液能析出Ni-Mo合金。

      圖3 Mo-H2O系E-pH圖

      表3 Mo-H2O 體系中主要反應(yīng)和平衡條件

      圖4 Cu-Mo-H2O系E-pH 疊合圖

      因缺少Cu-Ni固溶體的熱力學(xué)數(shù)據(jù),將圖1和圖2疊合,得到如圖5所示的Cu-Ni-H2O系E-pH疊合圖。由圖5可知:Cu-Ni合金能從圖2中a-①-②線圍成的熱力學(xué)穩(wěn)定區(qū)域內(nèi)正常共沉積析出。

      圖5 Cu-Ni-H2O系E-pH 疊合圖

      4 結(jié)論

      在Cu2+、Ni2+水溶液中,Cu和Ni在熱力學(xué)穩(wěn)定區(qū)能正常共沉積析出。Cu-Mo 假合金不能在水溶液中析出,但Ni-Mo 合金能在水溶液中誘導(dǎo)共沉積析出。因此,電鍍法制備Cu-Mo-Ni合金是可行的。

      [1]雷虎,崔舜,林晨光,等.Mo-30Cu合金軋制變形組織及性能研究[J].稀有金屬,2011,35(6):945-949.

      [2]韓勝利,宋月清,崔舜,等.Mo-Cu合金的開發(fā)和研究進展[J].粉末冶金工業(yè),2007,17(5):41-45.

      [3]劉建平.電鍍銀鎳合金工藝及其在電接觸材料生產(chǎn)中的應(yīng)用[J].電鍍與涂飾,2007,26(3):14-16.

      [4]謝健全,謝治華,黃和平,等.Cu-W-Ni-C觸頭材料的研制[J].中南工業(yè)大學(xué)學(xué)報:自然科學(xué)版,2003,34(1):63-65.

      [5]楊熙珍,楊武.金屬腐蝕電化學(xué)熱力學(xué)電位-pH圖及其應(yīng)用[M].北京:化學(xué)工業(yè)出版社,1991.

      [6]張歡.Ni-W-P-SiC系列復(fù)合鍍層脈沖電沉積工藝及性能研究[D].昆明:昆明理工大學(xué),2003.

      [7]陳云.堿性體系中鋁釩鉬的溶液化學(xué)性質(zhì)及分離技術(shù)研究[D].長沙:中南大學(xué),2006.

      [8]聶華平,謝芳浩,張小林,等.Mo(Cu)-H2O 體系電位-pH 平衡研究[J].濕法冶金,2012,31(5):284-287.

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