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      超材料結(jié)構(gòu)單元輪廓法對吸波材料衰減吸收頻帶的拓寬與優(yōu)化

      2014-11-30 09:46:10黃大慶康飛宇周卓輝丁鶴雁
      材料工程 2014年11期
      關(guān)鍵詞:輪廓諧振電流

      黃大慶,康飛宇,周卓輝,劉 翔,丁鶴雁

      (1清華大學(xué) 材料學(xué)院,北京100084;2北京航空材料研究院,北京100095)

      超材料由于其具有負(fù)折射率和負(fù)磁導(dǎo)率的奇異特性而引起了人們廣泛的關(guān)注[1],隨后不同的實(shí)現(xiàn)負(fù)折射率的設(shè)計(jì)方案被研究者們提出來[2-4],從早期的超級透 鏡[5]到電磁隱身 斗篷[6]再到波導(dǎo)器件[7],研究者們在不斷地把超材料應(yīng)用到眾多領(lǐng)域。然而,超材料的最大特點(diǎn)是其幾何尺寸的可設(shè)計(jì)性實(shí)現(xiàn)期望的介電常數(shù)和磁導(dǎo)率,這就為超材料在微波吸收材料中的應(yīng)用奠定了基礎(chǔ)。Landy等[8]將超材料引入了吸波材料中實(shí)現(xiàn)微波段的窄帶的完美吸收,但對于吸波材料而言,窄帶完美吸收不能滿足實(shí)際應(yīng)用需求,實(shí)現(xiàn)寬頻衰減吸收是超材料吸波體應(yīng)用的基本要求。由于超材料單元的幾何尺寸直接決定了其諧振頻率點(diǎn)的位置,所以不少研究者通過不同尺寸超材料結(jié)構(gòu)的組合,來實(shí)現(xiàn)多帶寬甚至寬頻的吸收[9,10]。然而,這種單元間的組合并不是無限制的,因?yàn)槌牧辖Y(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)必須符合等效媒質(zhì)理論,這就要求周期性單元的尺寸必須小于波長的1/5,過多單元的組合會破壞整體結(jié)構(gòu)的周期性,從而導(dǎo)致諧振吸收的消失,這就極大地限制了超材料單元的組合對頻帶擴(kuò)展的作用。因此,需要進(jìn)一步研究拓展超材料吸波體帶寬的技術(shù)途徑。

      本工作首先設(shè)計(jì)了一種超材料吸波體,模擬仿真計(jì)算了其諧振頻率點(diǎn),并分析了其表面電流分布情況;然后對這個(gè)模型進(jìn)行了取輪廓的處理,在發(fā)現(xiàn)這種處理后的輪廓對其諧振吸收基本上沒有影響的基礎(chǔ)上,在這個(gè)輪廓模型中加入了其他的諧振單元,研究了通過單元間的組合實(shí)現(xiàn)拓寬微波衰減吸收頻帶的技術(shù)途徑,最后通過激光刻蝕的方法,研制了實(shí)際材料樣品,在實(shí)驗(yàn)上對所設(shè)計(jì)的模型進(jìn)行了驗(yàn)證。

      1 模型設(shè)計(jì)

      實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的模型如圖1(a)所示,經(jīng)過大量的仿真實(shí)驗(yàn),得到的模型尺寸如下:外正方形邊長a=8mm、開口g=2.8mm、所有金屬條的寬度w=1.2mm、背板為金屬板,所有的金屬都為銅,其厚度為0.017mm,導(dǎo)電率為5.88×107S/m。諧振結(jié)構(gòu)和金屬背板分別處于邊長c=12mm、厚度為2mm的FR4基板(E=4)正反兩面。

      圖1 模型的不同視角及其計(jì)算結(jié)果(a)模型的三種視角;(b)模型的S11參數(shù);(c)吸收曲線;(d)表面電流分布Fig.1 Different perspective of the model and the results of calculation(a)three kinds of perspective of the model;(b)S11parameter of the model;(c)absorption curve;(d)surface current distribution

      2 仿真結(jié)果和數(shù)據(jù)分析

      數(shù)字仿真是采用基于有限差分法來計(jì)算金屬-電介質(zhì)結(jié)構(gòu)的透射參數(shù)與反射參數(shù)的CST Microwave Studio軟件進(jìn)行的,在1~8GHz頻段,對圖1(a)中的一個(gè)單元的超材料結(jié)構(gòu)進(jìn)行了仿真研究。在垂直入射電磁波的激勵(lì)下仿真計(jì)算了一個(gè)單元吸波體的散射參數(shù),如圖1(b)所示。從圖中可以看出,在4.5GHz左右出現(xiàn)了一個(gè)吸收峰,由于背板為金屬,透過率S212可以認(rèn)為是0,所以這個(gè)模型的吸收率[11]A=1-S112-S212,其在諧振頻點(diǎn)處達(dá)到了0.90以上(圖1(c));進(jìn)一步分析其諧振點(diǎn)的表面電流分布發(fā)現(xiàn)(圖1(d)),大部分電流集中分布在金屬結(jié)構(gòu)的邊緣,這就為基本不改變諧振點(diǎn)位置的前提下最大限度簡化超材料結(jié)構(gòu)提供了可能。

      因此,對這個(gè)模型進(jìn)行了輪廓化處理,由于一般PCB板加工的精度在3~6mil(0.075~0.15mm),所以為了滿足工業(yè)領(lǐng)域加工精度要求,實(shí)驗(yàn)中取其輪廓線的寬度w=0.2mm。模型如圖2(a)所示,其余尺寸不變,在垂直入射電磁波的激勵(lì)下仿真計(jì)算了一個(gè)單元吸波體的S參數(shù),結(jié)果如圖2(b)。

      圖2 輪廓化處理后的模型及其計(jì)算結(jié)果(a)輪廓化處理后模型的三種視圖;(b)S11參數(shù);(c)表面電流分布Fig.2 Contour of the model and the results of calculation(a)three kinds of perspective of the model contour;(b)S11parameter;(c)surface current distributions

      從圖1(b)和圖2(b)的S11參數(shù)對比可以看出,輪廓模型使原始模型的諧振頻點(diǎn)向低頻有所移動,但變化不是很大,其在吸收深度上有所加深。通過觀察分析這兩個(gè)模型諧振點(diǎn)的電流分布可以看出(圖2(c)),輪廓模型在結(jié)構(gòu)外環(huán)上產(chǎn)生了一定強(qiáng)度的電流分布,而在原始模型上最外邊緣幾乎沒有電流分布,因此認(rèn)為對原始模型取輪廓后,由于外輪廓與內(nèi)輪廓之間的距離,產(chǎn)生了一個(gè)寄生電容,相當(dāng)于在原來的電容上并聯(lián)了一個(gè)電容,根據(jù)LC諧振電路的計(jì)算公式f0=可知,增加的這部分電容C1使得諧振頻點(diǎn)向低頻移動了,與此同時(shí)由這個(gè)電容所組成的環(huán)路還起到了增加電磁場能量消耗的作用,使得吸收峰變得更深;更深入觀察發(fā)現(xiàn),這種結(jié)構(gòu)模型在諧振點(diǎn)所激發(fā)的電流模式都是從上而下的,這為以后分析多帶寬電流分布是由哪個(gè)結(jié)構(gòu)決定的提供了重要的依據(jù)。

      3 雙吸收帶的實(shí)現(xiàn)

      在模型輪廓處理研究工作的基礎(chǔ)之上,對通過不同結(jié)構(gòu)參數(shù)模型的組合來實(shí)現(xiàn)雙吸收峰的結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究。通過大量的仿真實(shí)驗(yàn)得到了一種實(shí)現(xiàn)雙吸收帶寬的組合結(jié)構(gòu),結(jié)果如圖3所示。

      中間“王”字型的結(jié)構(gòu)是原始結(jié)構(gòu)模型的簡化版本,其結(jié)構(gòu)參數(shù)為:高度h0=7mm,寬度b=6mm,b1=3.6mm,線寬w=0.2mm。由仿真結(jié)果的S11參數(shù)可以看出(圖3(b)),這個(gè)模型分別在3.4GHz和5.2GHz處出現(xiàn)了吸收峰,并且其低頻吸收峰比高頻吸收峰淺(圖3(c))。進(jìn)一步觀察其諧振頻點(diǎn)的表面電流分布發(fā)現(xiàn)(圖3(d)),在低頻諧振時(shí),外輪廓上的電流分布和圖2(c)的表面電流分布相同,而“王”字形結(jié)構(gòu)和圖2(c)的表面電流分布相反,這說明低頻諧振主要是由外輪廓諧振產(chǎn)生的。而“王”字形結(jié)構(gòu)的反向電流分布起到了抑制外輪廓感應(yīng)電流產(chǎn)生的磁場消耗入射電磁波磁場的能力,使得吸收峰變淺。為了進(jìn)一步說明這個(gè)問題,可以對整個(gè)結(jié)構(gòu)的諧振模式進(jìn)行分析[11],首先,超材料諧振是由兩種諧振模式組成的,第一種是超材料結(jié)構(gòu)金屬單元和背板之間產(chǎn)生的磁耦合,另外一種是單元和單元之間產(chǎn)生的電耦合,而磁耦合是引起表面電流分布的主要原因。在這個(gè)模型中,其入射的磁場方向垂直于諧振環(huán)和金屬背板,根據(jù)楞次定理,由磁通量的改變而產(chǎn)生的感應(yīng)電流方向,總是在阻礙磁通量的改變,所以,金屬結(jié)構(gòu)上表面電流的方向一定與入射磁場的變化趨勢有關(guān),而不同結(jié)構(gòu)的表面出現(xiàn)了不同方向的感應(yīng)電流必然是由于不同的磁通量變化趨勢引起的,“王”字型金屬上感應(yīng)電流產(chǎn)生的磁場是阻礙外輪廓感應(yīng)電流產(chǎn)生的磁場的,那么這樣就減少了諧振時(shí)外輪廓對入射電磁波磁場的消耗能力,吸收峰變淺。同時(shí),“王”字形結(jié)構(gòu)的電諧振產(chǎn)生了一個(gè)寄生電容,相當(dāng)于在原來的電容上并聯(lián)一個(gè)電容,吸收峰向低頻移動,使得低頻吸收峰的位置比單獨(dú)由外輪廓產(chǎn)生的吸收峰的位置低。

      圖3 超材料輪廓組合結(jié)構(gòu)模型(a)三種視角圖;(b)S11參數(shù);(c)吸收曲線;(d)左圖為低頻諧振點(diǎn)的表面電流分布圖,右圖為高頻諧振點(diǎn)的表面電流分布圖Fig.3 The combination of the metamaterial contour model(a)three kinds of perspective of the combination model;(b)S11parameter;(c)absorption curve;(d)the left picture shows surface current distribution at low resonant point and the right picture shows surface current distribution at high resonant point

      在高頻諧振時(shí),只在“王”字型結(jié)構(gòu)上產(chǎn)生了表面電流,并且其表面電流的分布與圖2(c)的一樣,所以高頻諧振是由“王”字型結(jié)構(gòu)諧振產(chǎn)生的,同時(shí),由于外輪廓沒有產(chǎn)生反向感應(yīng)電流的阻礙,從而使得電流強(qiáng)度非常小的“王”字型結(jié)構(gòu)產(chǎn)生了比低頻諧振時(shí)更深的吸收峰。為了進(jìn)一步清楚地說明這個(gè)問題,實(shí)驗(yàn)中對“王”字型結(jié)構(gòu)單獨(dú)進(jìn)行了仿真,仿真結(jié)果如圖4所示,發(fā)現(xiàn)沒有外輪廓的情況下,諧振頻點(diǎn)依然是處于5.6GHz左右,并且其表面電流分布和組合結(jié)構(gòu)中高頻時(shí)其表面電流分布一樣(圖4(c)),所以外輪廓的作用也僅僅只是增加了寄生電容而拉低了諧振頻率點(diǎn)。

      4 實(shí)驗(yàn)結(jié)果

      圖4 “王”字形結(jié)構(gòu)及其吸收特征(a)三種視角圖;(b)S11參數(shù);(c)表面電流分布Fig.4 “王”shape and its absorption characteristic(a)three kinds of perspective of the model;(b)S11parameter;(c)surface current distribution

      圖5 不同結(jié)構(gòu)的仿真與實(shí)物對比(a)原型結(jié)構(gòu);(b)鏤空結(jié)構(gòu);(c)組合結(jié)構(gòu);(d)“王”字結(jié)構(gòu)Fig.5 Comparing different simulation and samples(a)the prototype structure;(b)the hollow structure;(c)the composite structure;(d)the“王”structure

      為了進(jìn)一步說明實(shí)驗(yàn)結(jié)果的正確性,實(shí)驗(yàn)中通過激光刻蝕技術(shù)制作了所有的計(jì)算模型(圖5),并用弓形法反射率測量方法對其S11參數(shù)進(jìn)行了測量。從圖5可以很明顯地看出,實(shí)驗(yàn)結(jié)果與仿真結(jié)果具有很好的一致性,諧振頻點(diǎn)的微小移動是由超材料制作上尺寸的微小誤差所造成的,而吸收深度的變淺是由測量誤差所引起的,在實(shí)際測量中,由于軟件的擬合等因素,不可能出現(xiàn)在仿真結(jié)果中出現(xiàn)的那么尖的吸收峰。排除這些因素的影響,可以說實(shí)驗(yàn)結(jié)果完全驗(yàn)證了超材料輪廓法拓寬吸波材料衰減吸收頻帶的技術(shù)思路。

      5 結(jié)論

      (1)設(shè)計(jì)了一種超材料吸波體,通過模擬仿真計(jì)算確定了其諧振中心頻率的位置,并分析了其表面電流的分布情況,發(fā)現(xiàn)了諧振中心處頻點(diǎn)的表面電流位置主要分布在超材料結(jié)構(gòu)的邊緣。

      (2)在超材料結(jié)構(gòu)模型進(jìn)行輪廓化處理,仿真結(jié)果顯示,處理后的輪廓對其諧振吸收基本上沒有影響。

      (3)在輪廓模型中加入了新的諧振單元,通過單元間的組合實(shí)現(xiàn)了雙頻帶的微波衰減吸收,通過激光刻蝕技術(shù)對設(shè)計(jì)的模型進(jìn)行了實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證,實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明與仿真結(jié)果具有很好的一致性,驗(yàn)證了超材料輪廓法拓寬吸波材料的技術(shù)思路,為寬頻帶超材料吸波體的研究提供了一個(gè)很好的技術(shù)途徑。

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