馬麗娜,張森,李榮華,閻維賢?
(1.山西大學(xué) 理論物理研究所,山西 太原 030006;2.山西大學(xué) 物理電子工程學(xué)院,山西 太原 030006)
在緊束縛近似中[1],能夠得到石墨烯中的電子在K、K′點(diǎn)的行為類似于具有手征Dirac電子,但是運(yùn)動速度卻是光速的1/300[2-3]。這種特殊的性質(zhì)使電子在石墨烯中具有量子電動力學(xué)中的相對論粒子的性質(zhì):例如Klein隧穿就是個例子,垂直入射的Dirac電子能夠完全穿過任意高勢壘。除此之外,Dirac電子也有著異常的物理性質(zhì),例如由于電子和空穴波函數(shù)的干涉引起的震顫,強(qiáng)磁場中的反常量子霍爾效應(yīng)[4],以及發(fā)生在單層石墨烯和超導(dǎo)材料薄膜的反常的Andreev反射[5]。正是由于單層石墨烯的電子具有Klein隧穿這樣特殊的性質(zhì),使得把石墨烯中的電子控制在勢壘中變得幾乎不可能。但是近來的研究表明利用磁場反而可以有效地把Dirac電子控制在有效的范圍內(nèi),從而為石墨烯電子學(xué)的應(yīng)用提供了一個可能的選擇[6]。一般情形下,大部分研究是集中在單層石墨烯中的電子或光學(xué)性質(zhì),但實際在應(yīng)用上,石墨烯通常是生長在某種物理介質(zhì)上,例如二氧化硅(SiO2)等絕緣基板上,由于晶格匹配的問題,往往產(chǎn)生應(yīng)力,這些應(yīng)力實際上會影響石墨烯中的最近鄰的A,B子格子的隧穿,這種對最近鄰隧穿的影響就表現(xiàn)在對理想單層石墨烯中的電子的哈密頓要進(jìn)行必要的修正[7]。本文正是基于這種實際情形下的考量,對理想的單層石墨烯中的電子哈密頓做了各向異性的修正,研究石墨烯表面在磁場和應(yīng)力共同作用下的電子的隧穿性質(zhì)。我們利用轉(zhuǎn)移矩陣的方法研究了電子在應(yīng)力作用下矢勢驅(qū)動的單層石墨烯單個勢壘的透射性質(zhì),從而得到了透射率與入射粒子費(fèi)米能以及勢壘寬度的變化關(guān)系,并且討論其與無應(yīng)力情形下隧穿性質(zhì)的比較,這些結(jié)果有利于深入揭示應(yīng)力對石墨烯電子隧穿特性的影響。
如果將上述修正的系統(tǒng)放在垂直于石墨烯表面(x,y)方向磁場下:即B=B ez,在忽略電子自旋自由度的情形下,根據(jù)最小耦合原理,我們得到下列有效哈密頓量:
單層石墨烯實際上是由A,B兩套子格子構(gòu)成的一種二維六角形晶體,在緊束縛近似下:它的哈密頓量可以寫成如下形式[2-3]:
其中電子動量為k=-i(?x,?y)T,Pauli矩陣σ=(σx,σy)作用在A,B 子晶格構(gòu)成的贗自旋空間。石墨烯表面存在應(yīng)力時,顯示出各向異性,不失一般性,我們假定:有vx=αvy,vy=vF,α為應(yīng)力相關(guān)因子,費(fèi)米速度vF=1.0×106m/s.
Fig.1 Schematic plot of the Dirac electrons in strained graphene driven by vector potential A(x)圖1 Dirac電子在矢量勢驅(qū)動的應(yīng)變石墨烯的示意圖
如果我們選擇下列磁矢勢A(x,y)=A(x)ey(如圖(1)所示),
也就是說:圖(1)中三個區(qū)域內(nèi),在|x|≤d處,B=B ez,|x|>d處,B=0。
圖2描述應(yīng)力和磁場共同作用下的石墨烯中Dirac電子在不同磁勢壘寬度和以不同能量入射時,透射率隨入射角度變化的規(guī)律。當(dāng)B0=4T時,lB=13 nm,同時當(dāng)εlB=1時所對應(yīng)的E=44 me V。圖2(a)與(b)描述了石墨烯在表面應(yīng)力相關(guān)因子α=0.75情形下,分別給出了(a)εlB=5和(b)d/lB=1.5,透射率隨入射角φ變化的規(guī)律曲線。我們知道:如果系統(tǒng)所加的是電勢,那么不論電勢的勢壘有多高,在電子垂直入射的情形下,電子的透射率都等于1,電子會完全穿過勢壘,這也就是所謂的Klein隧穿[3]。但是,如果引入磁場,則會徹底改變這種狀況,所以,磁場可作為約束Dirac電子處于某一范圍內(nèi)的有效手段。這種約束可以很清楚地在圖2(a)和(b)看出來:圖2(a)中d/lB=3,4.5,4.97時,在垂直入射下透射率均為零。圖2(b)εlB=1.6時,透射率為零;εlB=3.2時,盡管不為零,但明顯小于1。
Fig.2 Two polar plots of the transmission under the same strain factorα=0.75,(a)the same incident energy E=220 meV,but different magnetic barrier width:d/l B=0.5,1.5,3,4.5,4.97;(b)the same magnetic barrier width d/l B=1.5,but with different incident energies:εl B=1.6,3.2,4,5,7圖2 透射率的極坐標(biāo)圖,應(yīng)力相關(guān)因子α=0.75,(a)入射能量等于220 me V情形下,磁勢壘寬度2d不同時透射率的變化情況;(b)磁勢壘寬度2d=39 nm情形下,入射能量不同時的透射率
為了定量評估應(yīng)力對于Dirac電子的輸運(yùn)性質(zhì)的影響,我們在圖3中給出了理想的單層石墨烯和應(yīng)力作用下單層石墨烯的透射率隨不同入射角度的變化情況。在圖3(a)中,固定入射粒子的入射能量E=70.4 meV和磁勢壘寬度d=19.5 nm。分別繪出了不同的應(yīng)力相關(guān)因子下透射率隨入射角的變化。在圖3(b)中,畫出了對應(yīng)不同應(yīng)力相關(guān)因子透射率的變化曲線,取較大的入射能量E=220 me V,磁勢壘寬度與圖(a)相近:2d=36.4 nm。因為兩個子圖的磁勢壘寬度相近,入射電子能量有很大差距。圖中可以看出,當(dāng)入射能量較小時,粒子隧穿情況隨應(yīng)力的變化而有著明顯的變化。隨著能量變大,其變化越來越不明顯,當(dāng)能量較大如3(b)圖所示,應(yīng)力對透射率幾乎沒有影響。但是,對于入射能量較小的情形(如圖3(a)所示),應(yīng)力對透射率卻有很大的影響。圖3(a)中,實線給出了理想的單層石墨烯的透射率[6],應(yīng)力越大(α越?。干渎首兓酱?,當(dāng)α=0.7時,透射率可以達(dá)到1,在某個入射方向?qū)崿F(xiàn)完全透射。
Fig.3 Polar plots of the transmission of Dirac electron under the strain.(a)small incident energy:d/l B=1.5,εl B=1.6;(b)large incident energy d/l B=1.4,εl B=5.0圖3 石墨烯存在不同的應(yīng)力情況下透射率的極坐標(biāo)圖,(a)能量較小下的情形d/l B=1.5,εl B=1.6;(b)能量較大的情形:d/l B=1.4,εl B=5.0
本文主要研究了應(yīng)變單層石墨烯穿過磁勢壘的隧穿性質(zhì)。通過引入應(yīng)力相關(guān)因子研究了狄拉克電子在不同磁勢壘寬度和以不同能量入射時,透射率隨入射角度變化的規(guī)律,除此之外,還研究狄拉克電子在應(yīng)力相關(guān)因子不同的情況下,磁勢壘寬度和入射電子能量相同時,透射率隨入射角度變化的規(guī)律。我們在整個空間區(qū)域構(gòu)造了轉(zhuǎn)移矩陣,通過連續(xù)性條件給出了穿過磁勢壘的透射率的表達(dá)式。通過數(shù)值計算表明:在小角度散射中,磁場和應(yīng)力對狄拉克粒子隧穿的影響與通常意義上的薛定諤粒子隧穿不同[9],也與處于電勢壘中的能完全透射的克萊因隧穿不同[3],磁場和應(yīng)力可以把狄拉克電子束縛在一個應(yīng)變的磁勢壘中。只要入射能量不是很大,應(yīng)變的增加可以顯著增加定向透射率,這種既能把狄拉克粒子約束在某個特定方向,而且又能通過應(yīng)變調(diào)節(jié)透射率的大小在實際技術(shù)應(yīng)用中很重要。同時我們發(fā)現(xiàn)在大的入射能量下,應(yīng)變引起的效應(yīng)會被消除,從而使得應(yīng)變的石墨烯和理想石墨烯幾乎具有相同的隧穿性質(zhì)。
[1] Wallace P.The Band Theory of Graphite[J].Phys Rev,1947,71:622-634.
[2] DiVincenzo D P,Mele E J.Self-consistent Effective-mass Theory for Intralayer Screening in Graphite Intercalation Compounds[J].Phys Rev B,1984,29:1685-1694.
[3] Neto A H C,Guinea F,Peres N M R,et al.The Electronic Properties of Graphene[J].Rev Mod Phys,2009,81:109.
[4] Gusynin V P,Sharapov S G.Unconventional Integer Quantum Hall Effect in Graphene[J].Phys Rev Lett,2005,95:146801 1-4.
[5] Beenakker C W J.Colloquium:Andreev Reflection and Klein Tunneling in Graphene[J].Rev Mod Phys,2008,80:1337.
[6] De Martino A,Dell’Anna L,Egger R.Magnetic Confinement of Massless Dirac Fermions in Graphene[J].Phys Rev Lett,2007,98:066802.
[7] Soodchomshom B.Valley-dependent Tunneling in a Monolayer Gapped Graphene Without Strain[J].Physica E,2012,44:1617-1622.
[8] Gradshteyn I S,Ryzhik I M.Table of Integrals,Series,and Product[M].New York:Academic press,1965.
[9] Ibrahim I S,Peeters F M.Two-dimensional Electrons in lateral Magnetic Superlattices[J].Phys Rev B,1995,52:17321.