鄭 凡
(廣州杰賽科技股份有限公司,廣東 廣州 510730 )
在PCB電鍍生產(chǎn)過程中主要缺陷有以下幾種,銅粒,凹痕、凹點(diǎn)、板面燒焦、層次電鍍、表面氧化等;在這幾種表面缺陷中銅粒的影響極為嚴(yán)重,且難以修理和返工?,F(xiàn)對(duì)全板硫酸銅電鍍后出現(xiàn)的一種有規(guī)律的板面銅顆粒的產(chǎn)生原因,及其反應(yīng)機(jī)理分析,以便解決此類問題。
缺陷圖1的鍍銅缺陷分析,不良處銅顆粒的分布具有一定的規(guī)律成條狀分布,不是整板隨機(jī)分布。
圖1 板鍍銅顆粒切片分析
(1)化學(xué)鍍銅工藝可能引起的板面銅粒?;瘜W(xué)鍍銅流程中若有某個(gè)參數(shù)出現(xiàn)偏差都有出現(xiàn)銅顆粒的可能,除板面氧化造成的以外,一般在板面上分布較為均勻,規(guī)律性較強(qiáng),且在此處產(chǎn)生的污染無(wú)論導(dǎo)電與否,都會(huì)造成電鍍銅板面銅粒的產(chǎn)生.
(2)板鍍工藝可能引起的板面銅粒。酸銅電鍍銅缸造成板面銅粒的原因大概歸納為幾方面:
①槽液參數(shù)維護(hù)方面,包括硫酸含量過高,銅含量過低,槽液溫度低或過高,特別沒有溫控冷卻系統(tǒng)的工廠,此時(shí)會(huì)造成槽液的電流密度范圍下降,按照正常的生產(chǎn)工藝操作,可能會(huì)在槽液中產(chǎn)生銅粉,混入槽液中。
②生產(chǎn)操作方面主要打電流過大,夾板不良,空夾點(diǎn),槽中掉板靠著陽(yáng)極溶解等同樣會(huì)造成部分生產(chǎn)板電流過大,產(chǎn)生銅粉掉入槽液,逐漸產(chǎn)生銅粒故障。
③物料方面主要是磷銅角磷含量和磷分布均勻性的問題;生產(chǎn)維護(hù)方面主要是大處理,銅球添加時(shí)掉入槽中,碳處理時(shí)陽(yáng)極清洗和陽(yáng)極袋清洗不好,存在一些隱患。碳處理時(shí)應(yīng)將銅球表面清洗干凈,并用雙氧水微蝕出新鮮銅面,陽(yáng)極袋應(yīng)先后用硫酸雙氧水和堿液浸泡,清洗干凈,特別是陽(yáng)極袋要用5-10微米間隙PP濾袋。
導(dǎo)致此類缺陷影響因數(shù)中沉銅過程和電鍍銅缸的異常關(guān)系較大。
PCB從沉銅到板鍍之間的主要流程如下;
薄板架上板→沉銅→水洗→除油→水洗→酸浸→板鍍
板鍍有兩種電鍍方式;電鍍一次鍍夠和正常板電鍍。電鍍一次鍍夠板和正常板在流程上的主要區(qū)別是一次鍍夠板采用電鍍薄板架方式上板,根據(jù)流程進(jìn)行模擬對(duì)比試驗(yàn),找出產(chǎn)生問題的原因。
(1)沉銅和板鍍流程正交試驗(yàn)(表1),找到造成板面粗糙的主要原因。
通過以上4因數(shù)2水平的正交試驗(yàn),試圖找出導(dǎo)致電鍍銅顆粒的最大影響因數(shù),再現(xiàn)銅顆粒產(chǎn)生的原因。
(2)板鍍用掛具差異的正交試驗(yàn)(表2)
表1 因數(shù)正交試驗(yàn)
表2 掛具層別試驗(yàn)
通過以上實(shí)驗(yàn)中層別出來(lái)的顯著影響因數(shù)對(duì)兩種上板方式層別出進(jìn)一步的原因。
采用金相顯微鏡觀察銅面的表觀狀況,識(shí)別出銅顆粒的結(jié)晶大小及顆粒的嚴(yán)重程度。
通過水晶膠切片在高倍顯微鏡下觀察銅顆粒內(nèi)部形態(tài)以及形成時(shí)間。
表3 因數(shù)正交試驗(yàn)結(jié)果
從表3可以看出通過異常放大后的實(shí)驗(yàn)都有銅顆粒的產(chǎn)生,但是從以上不良點(diǎn)分布看和本文所要闡述的問題不一致,呈無(wú)規(guī)律分布,嚴(yán)重程度上看沉銅影響因素較大。
以表4可以看出連續(xù)使用的薄板掛籃生產(chǎn)的一次鍍夠的板有和本文所闡述相同的缺陷.
表4 掛具層別試驗(yàn)結(jié)果
綜合以上分析,將生產(chǎn)控制點(diǎn)全面排查后,發(fā)現(xiàn)在生產(chǎn)薄板(一次鍍夠板)所使用的沉銅掛籃和板鍍?cè)趻旎@上隔離線對(duì)應(yīng)的板面上都有掛籃印,板鍍后板面的銅粒也基本上是一條一條的分布(圖2)。
圖2 薄板掛具上板示意圖
從圖3中切片看銅顆粒中無(wú)任何雜質(zhì)。
圖3 板面顆粒狀況
以上結(jié)果總結(jié)具有以下特點(diǎn):
(1)銅粒形態(tài)基本上都是一條一條的,有規(guī)律性。
(2)銅粒內(nèi)未包裹雜質(zhì),碳粉等污染物,為實(shí)心銅粒。
(3)問題板基本上都是要使用薄板掛籃生產(chǎn)的。
機(jī)理分析:在沉銅槽中會(huì)出現(xiàn)化學(xué)鍍銅浴的分解,有時(shí)被認(rèn)為是“觸發(fā)”作用,它是從化學(xué)鍍銅浴內(nèi)快速鍍出銅造構(gòu)成的。其本質(zhì)上是因銅的還原反應(yīng)已失去控制,一旦開始就難以停止;其最終結(jié)果是鍍槽上都鍍上了銅。在使用未及時(shí)剝掛的沉銅掛籃生產(chǎn)時(shí),由于多次使用,掛籃上特氟龍材質(zhì)的隔離線上會(huì)累積更多的活化液 ,在線的附近就會(huì)形成一個(gè)區(qū)域性的“觸發(fā)”現(xiàn)象,使得化學(xué)鍍銅層觸發(fā)分解而附在這些部位的上面;由于快速的沉積也使得這些地方上沉積的銅層松散,而且有細(xì)微毛刺和凸起,電鍍時(shí)就會(huì)放大而形成銅粒。
這一反應(yīng)機(jī)理假設(shè)可以解釋試驗(yàn)事實(shí):銅粒形態(tài)是有規(guī)律的;銅粒內(nèi)未包裹雜質(zhì),為實(shí)心銅粒。
預(yù)防措施:
(1)保持沉銅槽藥水活性,使其維持在正常沉積速率范圍內(nèi)。
(2)掛籃需要依照使用次數(shù),規(guī)定剝掛(使用硝酸浸泡)的頻率。