張 濤,蔣潁丹,王麗秀
(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第58研究所,江蘇 無(wú)錫 214035)
壓控振蕩器(VCO)作為一個(gè)常見(jiàn)部件應(yīng)用于數(shù)字頻率合成、無(wú)線收發(fā)等領(lǐng)域,其性能優(yōu)劣將直接影響到鎖相環(huán)或是整個(gè)電路系統(tǒng)的工作質(zhì)量。在高頻段工作條件下,較之環(huán)形振蕩器,LC震蕩器由于其優(yōu)越的相噪性能、頻率穩(wěn)定性及低工作電壓的特點(diǎn)在無(wú)線通信領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用[1]。
本設(shè)計(jì)采用交叉耦合對(duì)架構(gòu),由片內(nèi)集成電感和可變MOS電容陣列組成LC諧振,采用SMIC的0.18 μm Mixed-RF 1P6M工藝制造,所有無(wú)源器件全部片內(nèi)集成,其中電感由第五、六鋁金屬并聯(lián)組成,由于金屬層較厚其寄生電阻相對(duì)較低,可以有效地提高電感Q值。經(jīng)過(guò)仿真該電路的調(diào)諧頻率為1.6~2 GHz,在中心頻率工作時(shí)相位噪聲為-118 dBc/Hz@600 kHz,電路功耗為5 mW。
工程應(yīng)用中多采用交叉耦合對(duì)的結(jié)構(gòu)來(lái)提供負(fù)阻以補(bǔ)償LC回路中的功率損耗,由于0.18 μm工藝條件下的閾值和幅度限制,電路采用單PMOS管的VCO,該結(jié)構(gòu)相噪性能要略?xún)?yōu)于單NMOS管結(jié)構(gòu)。電路結(jié)構(gòu)如圖1所示。
圖1 PMOS交叉耦合對(duì)結(jié)構(gòu)VCO
MP1和MP2交叉耦合構(gòu)成負(fù)阻放大器,產(chǎn)生的負(fù)阻為-2/Gmp,由于片內(nèi)電感面積較大,所以采用固定電感的方式。而在可變電容的選擇上,雖然加大可變電容的尺寸可以提高CMAX和CMIN的比值從而達(dá)到很寬的頻率覆蓋,但這樣同樣會(huì)導(dǎo)致VCO的增益過(guò)高而放大噪聲,使得系統(tǒng)的相噪惡化[2~3]。
本設(shè)計(jì)采用開(kāi)關(guān)電容來(lái)調(diào)節(jié)頻率范圍的方法[4],用5組可變電容陣列累加排布,使得VCO增益控制在合理范圍之內(nèi),同時(shí)用可變電容陣列實(shí)現(xiàn)頻率粗調(diào),利用可變電容管實(shí)現(xiàn)頻率微調(diào),使得整個(gè)頻率調(diào)諧曲線在控制電壓范圍內(nèi)線性化,以達(dá)到頻率覆蓋。片內(nèi)電感與可變電容陣列形成諧振回路,電路的諧振頻率為:
式(1)中fo為諧振頻率,L為片內(nèi)電感,CPAT為諧振回路寄生電容。CVAR為可變電容陣列,其值為式(2)所示:
CVARK為每個(gè)可變電容的容值,當(dāng)K=1時(shí),此時(shí)諧振頻率fo為fVCO的最大值,K=5時(shí)為fVCO最小值,由此可以計(jì)算出諧振頻率范圍。
依據(jù)巴克豪森準(zhǔn)則,振蕩器起振需滿(mǎn)足環(huán)路增益大于1,振蕩器的等效負(fù)阻模型如圖2,當(dāng)交叉耦合管MP1與MP2都工作在飽和區(qū)時(shí)可等效為-Rp=-2/gm的負(fù)阻,gm為單個(gè)PMOS管的跨導(dǎo),當(dāng)2/gm<Rp時(shí),負(fù)阻2/gm給諧振回路補(bǔ)充的能量大于內(nèi)阻Rp消耗的能量,振幅增大,電路開(kāi)始起振,當(dāng)幅度超過(guò)耦合管的飽和區(qū)時(shí),PMOS管會(huì)進(jìn)入非線性區(qū),使得電路進(jìn)入穩(wěn)態(tài)振蕩狀態(tài)。
為了保證振蕩器能工作,需按照上式來(lái)確定MP1、MP2的尺寸,其中RL為片內(nèi)電感的寄生電阻,fmin為振蕩器的最低振蕩頻率,實(shí)際設(shè)計(jì)中會(huì)留有設(shè)計(jì)余量,x為經(jīng)驗(yàn)值,取值在3~5倍之間。
圖2 交叉耦合對(duì)VCO負(fù)阻簡(jiǎn)化模型
本設(shè)計(jì)基于標(biāo)準(zhǔn)RF CMOS工藝,可變電容管采用累積型電容(AMOS)實(shí)現(xiàn),控制端分別為柵極和兩個(gè)N阱內(nèi)的N+接觸。AMOS結(jié)構(gòu)如圖3所示。
圖3 AMOS結(jié)構(gòu)圖
與PN結(jié)電容相比,該類(lèi)電容具有較大的Q值及電容變換比(CMAX/CMIN),工藝上通過(guò)將PMOS的源極和漏極的P+摻雜換成N+摻雜來(lái)實(shí)現(xiàn),這時(shí)源極漏極可以看作是襯底的接觸,這樣同時(shí)減小了N阱的寄生電阻,會(huì)具有較高的Q值。其單位電容值CVAR如式(4)所示,其中Weff為有效溝寬,Leff為有效溝長(zhǎng),COX為 單位氧化層電容,Cdep為單位耗盡層電容。
該MOS場(chǎng)效應(yīng)管工作在耗盡區(qū),當(dāng)耗盡層在柵氧下面形成的時(shí)候,其寬度會(huì)隨著外加偏壓而單調(diào)變化,從而產(chǎn)生耗盡層電容Cdep,當(dāng)定義有效溝道面積為Ag=LeffWeff時(shí),耗盡層電容Cdef可以近似按照式(5)計(jì)算:
其中εsi為Si介電常數(shù),為耗盡層寬度。由式(4)、(5)可以看出,較大的溝道面積可以提高電容變換比。但是由于柵與源漏存在的交疊電容會(huì)增大CMIN及寄生電阻對(duì)Q值的影響,在設(shè)計(jì)中還需要折衷考慮。
圖4 開(kāi)關(guān)電容單元
圖5 開(kāi)關(guān)電容陣列
圖4及圖5為VCO電路的開(kāi)關(guān)電容單元及開(kāi)關(guān)電容陣列的電路圖,開(kāi)關(guān)選用深N阱中的NMOS,電路采用差分電容開(kāi)關(guān)的結(jié)構(gòu),相比單端NMOS開(kāi)關(guān),該結(jié)構(gòu)的Q值可以提高一倍左右。開(kāi)關(guān)陣列采用5組疊加可變電容實(shí)現(xiàn)頻率覆蓋,如圖5所示,C01和C02為固定MIM電容,該陣列通過(guò)開(kāi)關(guān)sw1~sw5可以選擇是否將各個(gè)可變電容接入LC諧振電路,以實(shí)現(xiàn)頻率粗調(diào)。當(dāng)開(kāi)關(guān)sw1~sw5全部導(dǎo)通時(shí)諧振網(wǎng)絡(luò)中可調(diào)的電容值為最大,此時(shí)VCO的振蕩頻率為最低,當(dāng)只有sw1導(dǎo)通時(shí),諧振網(wǎng)絡(luò)中接入可變電容為最小,此時(shí)VCO的振蕩頻率為最低值,圖6所示為本電路的VCO頻率范圍。
圖6 VCO頻率范圍
LC振蕩器有三種噪聲來(lái)源,分別來(lái)自尾電流源噪聲、負(fù)阻放大器噪聲以及L、C的熱噪聲。根據(jù)線型時(shí)變相噪模型[5],在VCO中心頻率頻偏Δω處的相位噪聲L(Δω)為:
其中Itail為尾電流,ωo為中心頻率,根據(jù)式(6)、(7)、(8)可以歸納出式(9):
可以看出,增大諧振電路的Q值及增加尾電流Itail的大小可以有效地改善LC電路的相噪性能,但由于信號(hào)擺幅受電源電壓限制及設(shè)計(jì)功耗的影響,設(shè)計(jì)中也不能一味增大尾電流。本文設(shè)計(jì)的PMOS尾電流源為2.5 mA。
該VCO基于SMIC 0.18 μm Mixed-RF 1P6M工藝制造,版圖面積為500 μm×620 μm,使用Cadence SpectreRF仿真,VCO的輸出范圍為1 594~2 023 MHz,中心頻率1.8 GHz輸出時(shí)相位噪聲為-118 dBc/Hz@600 kHz,1.9 GHz輸出時(shí)相位噪聲為-121 dBc/Hz@600 kHz,圖7、圖8和表1分別為各個(gè)頻率相位噪聲及f-V曲線的仿真數(shù)據(jù)和電路設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)。
圖7 VCO相位噪聲(@600 kHz)
圖8 f-V曲線仿真
表1 VCO設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)
該VCO設(shè)計(jì)采用交叉耦合對(duì)架構(gòu),由片內(nèi)固定電感和AMOS電容形成LC諧振,通過(guò)控制電容陣列和可變電容分別實(shí)現(xiàn)輸出頻率的粗調(diào)和細(xì)調(diào),以實(shí)現(xiàn)輸出的寬帶覆蓋?;赟MIC 0.18 μm RF模型仿真表明,該VCO在1.8 V工作電壓下,功耗為5 mW,可實(shí)現(xiàn)22%的調(diào)頻范圍,1.8 GHz輸出時(shí)相位噪聲為-118 dBc/Hz@600 kHz,該電路設(shè)計(jì)可以滿(mǎn)足低噪聲PLL的應(yīng)用需求。
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