《微光學(xué)和納米光學(xué)制造技術(shù)》介紹

微納米光學(xué)的重要特征是光學(xué)結(jié)構(gòu)和器件的特征尺度在微納米量級，是微納米技術(shù)與微電子、激光、光電子、通信等多學(xué)科交叉而迅速發(fā)展起來的一門科學(xué)。微納米光電元件和系統(tǒng)在發(fā)展上最重要的優(yōu)勢，除了具備體積微型化、重量超輕、集成化、規(guī)?；偷统杀就?，更值得注意的是可以通過微納光學(xué)制造技術(shù)，預(yù)先能夠?qū)⒐鈱W(xué)和電子器件之間的相對位置精確定位，無需再進行非常麻煩和耗時的調(diào)整對準(zhǔn)，系統(tǒng)的穩(wěn)定性和可靠性得到非常大的提高。另外，微納米光學(xué)系統(tǒng)可以非常方便地與其他功能的光電系統(tǒng)進行融合、集成和組合，會產(chǎn)生更為廣闊的應(yīng)用和發(fā)展。

之前翻譯出版的《微光學(xué)》和《微光機電系統(tǒng)》(國防工業(yè)出版社)，都偏重于微納米光學(xué)的理論研究和設(shè)計，而不容忽視的是，微納米光學(xué)制造技術(shù)正是實現(xiàn)微納米光學(xué)研究成果產(chǎn)業(yè)化，從實驗室走向?qū)嶋H應(yīng)用的關(guān)鍵技術(shù)。

微納米光學(xué)制造技術(shù)基本上朝著兩個方向發(fā)展:一是尋求更簡單便宜的微納米結(jié)構(gòu)生產(chǎn)方法，即在非極限環(huán)境條件下大面積生產(chǎn)微納米結(jié)構(gòu)的復(fù)制技術(shù)，包括納米印制技術(shù)、納米壓模技術(shù)、軟光刻技術(shù)和微接觸印制技術(shù)。其研究方式不是利用光學(xué)和電子等物理學(xué)工具，而是應(yīng)用日常生活中所熟悉的機械過程。二是應(yīng)用物理、化學(xué)或生物方法制作均勻性很好、有特殊功能的微納米顆?；蛳到y(tǒng)，例如用原子、分子束外延方法生長半導(dǎo)體量子點陣等。

《微光學(xué)和納米光學(xué)制造技術(shù)》一書的特點:

1.采用微光學(xué)和納米光學(xué)制造領(lǐng)域中具有最新技術(shù)的文獻內(nèi)容;

2.比較詳細地展示與微光學(xué)和納米光學(xué)元件有關(guān)的成功制造工藝;

3.重點給出一些基本的，鮮為人知的技巧，而不是泛泛地提供廣為流傳的工藝基礎(chǔ)。該書的主要內(nèi)容包括:

第一章 加工面浮雕形衍射光學(xué)元件

第二章 利用等離子體蝕刻技術(shù)加工微光學(xué)元件

第三章 利用相位光柵模板的模擬蝕刻技術(shù)

第四章 加工納米光學(xué)器件的電子束蝕刻技術(shù)

第五章 納米刻印技術(shù)和器件的應(yīng)用

第六章 平面光學(xué)塑料的設(shè)計和制造

第七章 3D平面塑料的制造:模塑鎢法

本書可供光電子領(lǐng)域從事光學(xué)儀器設(shè)計、光學(xué)設(shè)計和光機結(jié)構(gòu)設(shè)計(尤其是從事光學(xué)成像理論、微納米光學(xué)研究)的研發(fā)設(shè)計師、光機制造工藝研究的工程師閱讀，也可以作為大專院校相關(guān)專業(yè)本科生、研究生和教師的參考書。