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      【國外最新專利】

      2010-06-14 06:55:56溫靖邦
      電鍍與涂飾 2010年8期
      關(guān)鍵詞:鋅合金受讓人發(fā)明人

      編者注:本期公布的國外專利信息是2009年美國商標(biāo)專利局、日本專利局及世界知識產(chǎn)權(quán)組織公布的有關(guān)電鍍方面的專利信息。如需專利全文,請與我部聯(lián)系(聯(lián)系人:吳海玲;電話:020-61302516)。

      采用離子液體電沉積金屬的方法

      公開日 20090924

      發(fā)明人 KUZMANOVIC B,VAN STRIEN C J G,BARTEL C E,ZELTLER M,SPEELMAN J C

      受讓人 Akzo Nobel N.V.

      本發(fā)明涉及一種采用離子液體作為電解質(zhì),從中添加一種金屬鹽或以金屬陽極作為金屬源,在基材上電鍍或電拋光一層金屬的方法。離子液體的通式為N+R1R2R3R4X-或N+R5R6R7R8Y-,其中R1~R8各自表示氫原子、烷基、環(huán)烷基、芳基,或是被一個(gè)羥基、氯、溴、氟、碘、苯基、NH2、NO2、COOR9、CHO、COR9或OR9所取代的芳烷基。R5~R8中至少有一個(gè)是脂肪族烷基鏈,至少一個(gè)是聚氧化烯基團(tuán)(其中的亞烴基含1~4 個(gè)碳原子,而氧化烯單元的總數(shù)為1~50),R1~R8中至少有一個(gè)C1~C4 烷基鏈,R9是烷基或環(huán)烷基基團(tuán),X-是含有N-?;酋啺逢庪x子(─CO─N-─SO2─)官能度的陰離子,Y-是可與N+R5R6R7R8銨陽離子匹配的陰離子,如鹵素離子、羧酸根離子、硫酸根離子(有機(jī)和無機(jī)的皆可)、磺酸根離子、碳酸根離子、硝酸根離子、硫氰酸根離子、氫氧根離子或磺酰亞胺離子。

      提高鎳-鋅電池性能的鍍錫和錫鋅合金基體

      公開日 20090409

      發(fā)明人 FENG F,PHILLIPS J,MOHANTA S,BARTON J,MUNTASSER Z M

      受讓人 PowerGenix Systems,Inc.

      一種具有低析氣率的改進(jìn)型鎳-鋅電池,其生產(chǎn)過程中在負(fù)極基材上鍍覆了錫或錫-鋅。銅或黃銅基材經(jīng)電解清洗,活化,電鍍啞光表面至規(guī)定的厚度范圍,粘涂氧化鋅電化學(xué)活性物質(zhì)后焙燒。規(guī)定的鍍層厚度為40~80 μIn(即1.016~2.032 μm),可保證在最大程度上形成金屬間化合物Cu3Sn,這有助于抑制鍍層之下的銅向表面擴(kuò)散,并避免在焙燒過程中形成Cu6Sn5金屬間化合物,從而為電池工作期間提供足夠的耐蝕性。

      銅-鋅合金電鍍液及其鍍覆工藝

      公開日 20090611

      發(fā)明人 山本由紀(jì)子,大場丈司,豊澤真一

      申請人 株式會社ブリヂストン

      提供了一種銅-鋅合金電鍍液,可制備均勻、有光澤的銅-鋅合金鍍層。即使采用比傳統(tǒng)無氰工藝更高的電流密度,表面也不易變黑。該工藝生產(chǎn)效率極高。鍍液中含有如下組分:銅鹽;鋅鹽;堿金屬焦磷酸鹽;至少一種氨基酸及其鹽;聚醚(分子量在100~5 000 范圍之內(nèi),質(zhì)量濃度為100 ppm 至5%)。另外,組氨酸或其鹽可作為氨基酸或其鹽來使用。

      鎂及鎂合金上電鍍鉻的方法

      公開日 20091224

      發(fā)明人 MACARY R L

      受讓人 Arlington Plating Company

      一種在鎂及其合金上鍍鉻的工藝。該工藝結(jié)合了化學(xué)鍍鎳、多階銅鍍層過渡體系和多層鎳工藝,獲得了基本無滲透、層間結(jié)合力好的耐蝕體系,適用于直接電鍍鉻。

      釕-鈀合金鍍覆材料及其制備方法

      公開日 20090917

      發(fā)明人 木名瀬隆,藏根和義,藤平善久

      申請人 日鉱商事株式會社

      提供了一種鍍覆材料,其特征在于:具有與鍍釕產(chǎn)品相同的硬度、接觸電阻、色澤及類似性質(zhì),但比鍍釕產(chǎn)品更經(jīng)濟(jì)。釕-鈀合金鍍覆材料是采用電鍍的方法在基材之上獲得釕和鈀的合金鍍膜,該鍍膜中含有35%~68%(質(zhì)量分?jǐn)?shù))的釕,余量為鈀。

      鎵薄膜電鍍的有效方法及化學(xué)品

      公開日 20090709

      發(fā)明人 AKSU S,WANG J X,BASOL B M 受讓人 SoloPower,Inc.

      本發(fā)明涉及可沉積均勻、無缺陷、光滑的鎵薄膜的鍍鎵工藝及所用的化學(xué)品,該工藝鍍覆效率高,可重復(fù)性好。所得膜層可用于制造薄膜太陽能電池之類的電子設(shè)備。在實(shí)例中,提供了一種在半導(dǎo)體上應(yīng)用的溶液,其中含有鎵鹽、配位劑和溶劑。所得膜層的厚度為亞微米級。該溶液還可進(jìn)一步添加銅鹽和銦鹽,其pH 為7 或更高。

      用于電子零件的錫電鍍液,電子零件電鍍錫的方法,以及鍍覆錫的電子零件

      公開日 20090305

      發(fā)明人 折笠誠,牧野聡?yán)?/p>

      申請人 太陽化學(xué)工業(yè)株式會社

      鍍錫液中含有優(yōu)選的具有支鏈烷基的非離子表面活性劑。該非離子表面活性劑除了可單獨(dú)添加外,還可配合適當(dāng)?shù)年栯x子表面活性劑和/或烷基咪唑一起使用。

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