歐 萌,靳志強
(中國電子科技集團公司第二研究所,山西太源030024)
自工業(yè)大發(fā)展以來,人們對能源的追求就從未中斷過,而地球上的各種能源均是直接或間接的來源于太陽。光伏現(xiàn)象被發(fā)現(xiàn)后,太陽能發(fā)電的研究就成為最具發(fā)展的研究領域。太陽能電池的研制和開發(fā)進展神速,其中硅太陽能電池制造技術最為成熟,已實現(xiàn)大規(guī)模的生產(chǎn)及應用。
我國自20世紀五、六十年代開始發(fā)展光伏行業(yè)以來,通過四十多年的努力,在工藝技術和產(chǎn)能上都有了長足的進步,特別是近年來“光明工程”、“送電到鄉(xiāng)”等一些國家項目的啟動,以及世界光伏市場的有力拉動,使我國光伏發(fā)電產(chǎn)業(yè)得到了更加迅猛的發(fā)展。至2008年底太陽能電池產(chǎn)量已突破200萬kW,光伏企業(yè)的增加,伴隨著激烈的市場競爭,尤其是在去年的金融危機爆發(fā)后,全球市場迅速萎縮,競爭加劇,對于每一個光伏企業(yè)而言,要想在如此嚴峻的形勢下繼續(xù)生存,并進一步獲得發(fā)展,只有依靠技術的不斷創(chuàng)新。新技術的研發(fā)將決定著我國光伏企業(yè)的持續(xù)發(fā)展空間。
目前,已有許多國外光伏企業(yè)通過電鍍法來制造硅太陽能電池的埋柵電極,取代了常規(guī)的印刷法,這樣可有效降低柵線電極的制造成本,并提高太陽能電池的轉(zhuǎn)換效率,本文將對這一新技術進行相應的介紹。
電鍍電極工藝與絲網(wǎng)印刷電極工藝技術的對比如圖1所示。
圖1 電鍍電極與絲網(wǎng)印刷電極工藝技術之對比
與印刷法相比較,電鍍法的生產(chǎn)效率更高,另外其使用鎳-銅-錫組合工藝,達到了太陽能電池柵線電極的技術要求,在成本上比印刷銀漿有了大幅下降。最主要的是其柵線電極為埋槽嵌入式,增加了與硅片的接觸面積,降低了電極與硅片的接觸電阻,同時又增大了硅片的吸光面積,從而有效提高太陽能電池的轉(zhuǎn)化率。印刷法電極結(jié)構(gòu)見圖2,埋柵電極結(jié)構(gòu)見圖3。
圖2 印刷法電極結(jié)構(gòu)示意圖
圖3 埋柵電極結(jié)構(gòu)示意圖
硅片進行邊緣結(jié)刻蝕后,即可轉(zhuǎn)入埋柵電極電鍍法制造流程,具體工藝流程描述如下。
激光刻槽即按設計好的梳狀電極圖形,刻出電鍍所需的溝槽,刻槽深度要根據(jù)太陽能電池設計工藝要求而定,如采用一次擴散,則在電池設計上為了減小發(fā)射區(qū)表面淺層內(nèi)“死層”的厚度,降低發(fā)射區(qū)內(nèi)少子復合,提高電池短波響應及開路電壓等諸多關聯(lián)參數(shù),一般會采用淺結(jié)磷擴散,因此也要求溝槽深度較淺,這樣一來,就會減小電鍍電極與硅片的接觸面積,降低其結(jié)合力,不利于后期的電池片互連焊接強度;另外,也使磷擴散層橫向電阻功耗率增大,將影響整個電池片的效率提高空間,雖然采取增加電極數(shù)量,可以減少橫向電阻功耗,但又會減小電池片的有效吸光面積,同樣會影響到電池的轉(zhuǎn)化效率。因此,建議最好采用二次擴散工藝,即刻槽后,再進行一次擴散,這樣將能很好地解決以上諸多問題,制造出高性能的硅太陽電池片。
刻槽后硅片經(jīng)脫脂、水洗、活化后,即可進行化學鍍鎳打底?;瘜W鍍鎳采用堿性工藝,具體配制及操作工藝:硫酸鎳(NiSO4·7H2O)35 g/L,次亞磷酸鈉 (NaH2PO2·H2O)25 g/L,焦磷酸鈉 (Na3C6H5O7·2H2O)70 g/L,pH值9~10,溫度60℃。
化學鍍鎳時可通過設備對硅片進行單面操作或單面保護來進行,通過擴散后的硅極對堿性化學鎳有著良好的催化作用,在硅片正面無須制作鍍覆窗口,鎳金屬可有選擇性地沉積在電極溝槽內(nèi),化學鍍鎳主要是為了在硅極上沉積后續(xù)電鍍所需的導電層,另外,也是為了增加整個電極與硅片的結(jié)合力。堿性化學鎳的pH值,對沉積速度的均勻性有很大的影響,為了保證化學鎳的沉積質(zhì)量,需對操作過程中溶液的pH值進行嚴格控制,可采用pH電極即時檢測,再通過控制計量泵對溶液進行在線自動添加氨水來解決,另外,氨水的揮發(fā)性很大,要注意通風。
化學鍍鎳后,可選擇高溫燒結(jié),這樣可以大大提高電極與硅片結(jié)合力。然后再進行電鍍鎳,具體配制及操作工藝:氨基磺酸鎳[Ni(NH2SO3)2·4H2O]300 g/L,硼酸(H3BO3)40 g/L,去應力劑 40 m l/L,陽極活化劑5m l/L,潤濕劑1m l/L,pH值3.0,溫度90℃,電流密度2 A/dm2,攪拌強度中等。
由于化學鍍鎳速度較慢,需要電鍍鎳進行加厚,鍍鎳層是為了隔離銅層與硅片的接觸,因為銅離子對硅極有著強烈的毒化作用。電鍍鎳采用的氨基磺酸鎳體系沉積速度快,結(jié)晶細致,鍍液分散性好,可獲得低應力的柔韌性鍍層,廣泛應用于電子行業(yè)中的底層電鍍。
銅與銀一樣有著良好的介電性能,在價格上銅與銀的優(yōu)勢不言而喻,但在制作各種導電漿料上,銅因為很容易氧化而失去導電性,所以很難應用,用電鍍法可獲得純度極高的銅層,而充分發(fā)揮其優(yōu)良的性價比,因此在各類導電布線工藝中,電鍍銅無可替代。在硅太陽能電池電極電鍍層結(jié)構(gòu)中,銅層的作用就是導電,其具體配制及操作工藝:硫酸銅(CuSO4·5H2O)200 g/L,硫酸(H2SO4)80 g/L,氯離子(Cl-)70mg/L,抑制劑 12m l/L,光亮劑 30m l/L,整平劑 20m l/L,溫度20~25℃,電流密度5 A/dm2,攪拌強度強烈。
因為要進行溝槽填充電鍍,電鍍銅工藝必須具有各向異性,因此加入抑制劑,對溝槽側(cè)壁的鍍銅速度進行相對抑制,這樣才能獲得均勻、致密的銅層。
電鍍錫的作用,首先是對電鍍銅層起到良好的保護,防止其氧化,第二是提供良好的可焊性,為電池片的連接打好基礎。具體配制及操作工藝:甲基磺酸錫[Sn(CH3SO3)2]110 g/L,其中金屬錫40 g/L,絡合劑 70mg/L,補充劑12m l/L,溫度18~25℃,電流密度2 A/dm2,攪拌強度中等。
電鍍錫采用甲基磺酸工藝,該工藝是近年來才發(fā)展起來的新工藝,其相比于傳統(tǒng)的硫酸、氟硼酸體系有著明顯的特點。甲基磺酸屬有機酸,其鍍液性能十分穩(wěn)定,水解產(chǎn)物少,錫鹽的溶解性高,可在高濃度下進行電鍍操作,允許高電流、高鍍速,配合相應的添加劑,可得到平整性良好的鍍層,并且鍍液腐蝕性相對較小,對設備的腐蝕性低。
2009年3月我國財政部、住房和城鄉(xiāng)建設部推出“太陽能屋頂計劃”,對50萬kW以上的光伏發(fā)電系統(tǒng),每瓦最高可支付20元人民幣。該補貼的力度比較大,可抵消制造成本的30%以上,雖然用于補貼的資金總額并不多,但對我國光伏產(chǎn)業(yè)的影響深遠,體現(xiàn)了我國政府對太陽能發(fā)電的日益重視,相信在不久的將來,將一改我國光伏行業(yè)90%市場依賴出口的局面,使我國不僅是生產(chǎn)制造方面的大國,也是使用太陽能的巨大市場。技術的不斷更新,必將使我國的光伏產(chǎn)業(yè)走向世界之顛。
參考資料:
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